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两大芯片巨头预测:DRAM价格将大幅上涨
半导体行业观察· 2025-11-24 01:34
DRAM市场超级周期与需求驱动 - 受人工智能产业强劲需求推动,DRAM市场正经历“超级周期”,韩国三星电子和SK海力士成为主要受益者[2] - 2025年第四季DRAM平均售价涨幅预计将显著高于最初预期,主要驱动力是全球大型科技企业积极扩大AI基础设施建设[2] - 服务器用DRAM和高频宽记忆体等高附加值产品订单表现尤为活跃[2] 供需紧张与价格飙升 - 供需吃紧不仅限于高阶产品,用于个人电脑和智能型手机的通用型DRAM也面临极度严峻的供需短缺[3] - 主要记忆体供应商将大部分DRAM产能配置于HBM生产,并专注于转换投资而非建立新量产线,同时大幅缩减DDR4等上一代产品供应比重,导致其价格大幅飙升[3] - 中国科技大厂小米和阿里巴巴等已接受比前一季高出50%以上的价格涨幅,联想为确保供应链稳定签订了确保2026年记忆体供应的长期合约[4] 主要厂商价格表现与策略 - 三星电子预计第四季DRAM平均售价比前一季上涨至十位数上缘,此前第三季财报会议时预估涨幅仅为十位数中段[3] - SK海力士预计第四季DRAM平均售价比前一季上涨至高个位数上缘,其第三季平均售价较前一季上涨了中个位数中段[3] - 在通用型DRAM市场上,三星电子相较于竞争对手正采取更具“攻击性”的涨价策略[4] 摩根士丹利对市场疑虑的解析 - 市场对三大存储厂扩充DDR4产能的担忧不必要,因三大厂均将资源优先投入HBM4/HBM3e,逆向增加DDR4供给需重新调整电路设计和配置设备,成本与时间不具吸引力[6][7] - 经过大幅涨价后,旧世代DRAM需求依然亮眼,原因包括14、22奈米系统级芯片的存储控制器多仅支援DDR4、移转至DDR5可能带来系统稳定性风险、以及DRAM在多数系统物料清单中占比偏低[7] - 存储循环通常跨越四至六个季度,目前仅走过约二个季度,循环仍处于早期阶段,DDR4合约价仍有大幅上涨空间,可能较谷底上涨数倍[7] AI驱动的结构性变化与长期前景 - 本次存储超级循环由AI驱动,背后主要玩家是大型云端业者、企业资料中心、电信商和各国政府,这些玩家资金充裕、对价格不敏感,与过去主导存储价格的一般消费者截然不同[10] - AI从最初的训练到现在的推论,从云端未来走到边缘,投资曲线延伸到多年后,是算力结构的长期变化,而非消费者口味的突然转变[10] - 存储扩厂最快需14-18个月,量产最快是2027下半年的事,美光、海力士、三星均优先投入先进制程和HBM,高阶存储每单位资本支出创造的毛利高于成熟产品,导致其无意愿回头生产DRAM[11] 技术演进与产能挤压 - 英伟达考虑在下一代AI服务器改用LPDDR存储,LPDDR和HBM都比DDR制程难度更高、良率更低且容量更大,对晶圆的消耗更大,此举会加剧缺货状况[12] - HBM会挤压DDR产能,LPDDR改用到AI服务器使容量需求放大数个量级,进一步加剧供需紧张[12]
魏哲家:先进制程不够用,还是不够
半导体行业观察· 2025-11-24 01:34
文章核心观点 - 台积电董事长魏哲家与前董事长刘德音共同获颁美国半导体产业协会最高荣誉“罗伯特‧诺伊斯奖”,彰显公司在全球半导体行业中的领导地位 [1] - 魏哲家在颁奖典礼上罕见直言,受AI算力需求驱动,台积电先进制程产能严重不足,现有产能与客户需求相差约3倍 [2] - 奖项是对台积电长期推动先进制程、先进封装与制造生态系统贡献的高度肯定,其全球制造布局已成为AI时代的基础建设 [1][5] 获奖事件与行业意义 - 颁奖典礼于美西时间20日在美国加州圣荷西举行,由超微董事长暨执行长苏姿丰亲自颁奖,三人同台画面象征AI芯片供应链核心力量 [1] - 这是台积电继2008年创办人张忠谋获奖后,再度由前后任领导者同时获得此最高荣誉 [1] - 美国商务部长卢特尼克透过预录影片致意,肯定台积电的领导改变了世界,推动先进制造与全球科技进步 [2] - SIA总裁兼首席执行官John Neuffer赞誉获奖者为行业巨头,凭借80多年行业经验,重塑了现代半导体生态系统并彻底改变芯片制造技术 [4] 公司技术发展与市场需求 - 从7纳米、5纳米、3纳米到即将量产的2纳米,台积电在过去十余年间跨越多个技术节点 [1] - 公司在美国、日本、欧洲等地加速建厂,全球制造布局正持续扩张 [1] - 魏哲家透露,依照各家大客户的产品规划与成长预期,先进制程产能“不够、不够、还是不够”,需求远超预期 [2] - 魏哲家甚至笑称原本想穿着"No more wafer"字样的T-shirt上台,暗示晶圆需求强劲到难以消化 [2]
CXL 4.0发布:带宽提高100%
半导体行业观察· 2025-11-24 01:34
CXL 4.0 规范技术要点 - CXL联盟在SC25大会上发布CXL 4.0规范,将传输速度从64GTs提升至128GTs,带宽翻倍且无额外延迟 [2][4][11] - 新规范支持设备间高速数据传输,保留256B Flit格式,引入原生x2宽度概念以支持更大扇出,并支持最多四个重定时器以扩展通道覆盖范围 [7][11][12] - CXL 4.0实现捆绑端口功能,能够合并主机和CXL加速器之间的设备端口以提高连接带宽,尤其有益于AI应用 [6][7][12] - 规范提升了内存的可靠性、可用性和可维护性,旨在提高错误可见性和维护效率,同时完全向下兼容CXL 3.x、2.0、1.1和1.0版本 [5][6][12] CXL技术对人工智能的重要性 - AI工作负载正重塑数据中心基础设施,训练基础模型需要巨大内存容量,常超过单个GPU可用容量,CXL通过内存池化提供变革性解决方案 [14][15][19] - CXL是一种开放标准互连技术,专为连接CPU、GPU、加速器和内存设备设计,具有低延迟和完全缓存一致性,确保异构处理器间数据同步 [19] - CXL引入内存池化功能,允许内存动态分配给不同设备,消除闲置容量,提高利用率,并支持分层内存以平衡速度、容量和成本 [17][19] - CXL使业界从静态孤立架构转向灵活网络计算,为下一代AI系统铺平道路,支持大型语言模型跨节点内存池化,减少内存重复使用 [17][19][20] CXL技术带来的行业变革 - CXL技术引入光纤网络拓扑、多级交换及跨主机一致性内存共享,使整个服务器机架能作为统一灵活的AI架构运行 [21] - 超大规模数据中心、云服务提供商和高性能计算设施已开始试点部署CXL,从英特尔、AMD到三星、HPE等厂商已将其纳入产品路线图 [21] - CXL代表从以服务器为中心的计算到以架构为中心的AI基础设施的转折点,为下一代可扩展的AI和LLM系统奠定基础 [21]
安谋科技发布“AI Arm China”战略发展方向,携手产业共创AI未来
半导体行业观察· 2025-11-24 01:34
公司战略发布 - 在ICCAD-Expo 2025上正式发布"AI Arm CHINA"战略发展方向,公司将全力投入AI领域 [3][5] - 战略核心是紧密连接Arm全球生态,深耕中国本土创新,并以AI为文化内核,全员聚焦AI持续创新 [3] - 公司将把握AI加速渗透至千行百业的时代机遇,用AI+思维重构半导体等行业 [6] AI行业趋势与Arm平台优势 - AI正以前所未有的速度从云渗透至边端侧,深度融入基础设施、智能制造、智慧医疗等关键领域 [10] - 模型规模突破万亿参数等趋势对计算平台提出更高要求,需要兼顾高性能、高能效与高扩展性的新一代计算平台 [10] - Arm是唯一能覆盖全范围AI计算需求(从毫瓦级到兆瓦级)的平台,头部云服务商采用的Arm架构芯片可实现高达40%的能效提升 [10][12] - 预计2025年出货到头部超大规模云服务提供商的算力中有近50%基于Arm架构 [12] - 基于Arm架构的芯片累计出货量已超过3250亿颗,Arm在全球拥有超2200万开发者规模的生态系统 [12] 中国市场布局与自研IP成果 - 中国市场是公司的战略落脚点,国内授权客户已超440家,累计芯片出货量突破425亿颗 [14] - 公司已布局四大自研IP产品线,包括"周易"NPU、"星辰"CPU、"山海"SPU和"玲珑"多媒体系列 [14] - 近期发布周易X3 NPU IP,采用专为大模型而生的最新架构,覆盖基础设施、智能汽车等四大场景 [16] - 展示第三代自研CPU IP星辰MC3,提供更强的AI能力、更广的兼容性、更高的面效比和更低的功耗 [16] 产品展示与未来规划 - 展台Demo区展示了联合合作伙伴推出的前沿解决方案及终端品类,实现了端侧AI大模型无需联网的落地体验 [18] - 公司正推进两项重要布局:在香港成立国际研发中心聚焦AI、机器人等领域,上海Office将入驻西岸智塔AI Tower以融入中国AI产业集群 [19] - 各自研IP产品矩阵正全面向AI+方向加速演进,并在多个关键场景取得突破性进展 [19]
CPO找到了杀手级应用
半导体行业观察· 2025-11-24 01:34
文章核心观点 - AI数据中心对高算力和高网络速度的需求正推动共封装光(CPO)交换机技术的采用,以解决功耗和可扩展性难题 [1] - 英伟达和博通是CPO交换机领域的领先者,已有客户部署计划,该技术能显著提升能效和可靠性 [1][2][3] - 行业正致力于将CPO技术进一步集成到网卡和加速器本身,以构建更高效的大规模计算架构 [8][9] CPO技术的驱动力 - AI网络需要极高的端口速度,高达800 Gbps,英伟达下一代网卡计划实现1.6 Tbps端口速度 [2] - 高速率下直连铜缆传输距离极短,需大量耗电的可插拔收发器,CPO技术通过集成光组件解决此问题 [2] - 拥有128,000个GPU的集群,采用CPO交换机可将可插拔收发器数量从近50万个减少到约128,000个 [2] - 英伟达估计其光子交换机能效提高3.5倍,博通数据表明该技术可降低光器件功耗65% [2] CPO技术的可靠性与进展 - CPO技术早期担忧在于故障影响范围,但实际测试表明其可靠性显著提高 [3] - Meta部署博通CPO交换机并记录在400 Gbps端口速度下累计100万小时无抖动运行 [3] - 英伟达声称其光子网络平台弹性提高10倍,使训练工作负载运行中断时间延长5倍 [4] 主要厂商CPO产品现状 - 英伟达推出全液冷Quantum-X Photonics平台,144个800Gbps端口,总带宽115.2Tbps,获TACC、Lambda和CoreWeave部署 [5] - 英伟达Spectrum-X Photonics以太网交换机将提供多种配置,包括512个或2048个200 Gbps接口,以及128个或512个800 Gbps端口 [5][6] - 博通展示基于Tomahawk 6 ASIC的102.4 Tbps CPO平台,可分出512个200 Gbps接口 [6] - Micas Networks已开始出货基于博通Tomahawk 5 ASIC的51.2 Tbps CPO交换机 [6] CPO技术未来发展方向 - 博通等公司正致力于将共封装光学器件应用于加速器本身 [8] - Ayar Labs展示参考设计,将八个TeraPHY芯片集成到单个封装,提供高达200 Tbps带宽 [8] - Lightmatter开发CPO芯片和硅光子中介层,旨在利用光子互连进行芯片间通信,或可完全消除对可插拔光学器件的需求 [9]
EUV光刻机“秘史”!
半导体行业观察· 2025-11-24 01:34
文章核心观点 - 极紫外光刻技术是延续摩尔定律的关键,其商业化成功由荷兰ASML公司实现,但基础研究主要由美国机构完成,凸显了技术研发与商业化成功之间的差异 [1][22][23] 半导体光刻技术原理与演进 - 光刻技术利用掩模将光选择性投射到硅片,通过光刻胶硬化软化、蚀刻等步骤构建集成电路,过程重复数十次 [2] - 早期光刻使用436纳米汞灯光源,衍射现象成为限制特征尺寸缩小的关键因素 [2] - 晶体管尺寸从20世纪70年代初约10000纳米缩小至如今约20-60纳米,依赖光刻技术进步 [1] - 光学光刻通过浸没式技术、相移掩模等多重创新突破预期极限,推迟被替代时间 [6] 替代光刻技术的探索与局限 - 电子束光刻无需掩模可实现更小特征尺寸,但速度比光学光刻慢三个数量级,曝光300毫米晶圆需数十小时,仅用于原型制作 [4] - X射线光刻波长仅10纳米至0.01纳米,但需同步加速器作为光源,IBM投入超10亿美元,最终未取代光学光刻 [5][6] - 电子束和X射线光刻未能规模化因光学光刻持续创新,如透镜设计进步和更短波长光应用 [6][8] 极紫外光刻技术的诞生与发展 - 日本NTT研究员木下博夫因X射线光刻困难转向软X射线研究,1985年首次通过多层镜反射投射图像,波长约2-20纳米 [9][11] - 多层镜由不同材料交替层构成,通过相长干涉反射X射线,斯坦福大学等机构研发钼硅镜反射13纳米光 [10][11] - 早期业界对反射式X射线光刻持怀疑态度,NTT、贝尔实验室等坚持研究,1989年会议被视为EUV技术曙光 [12][13] - 技术更名为极紫外光刻以区别于深紫外光刻,避免与声誉不佳的X射线近场光刻混淆 [15] EUV技术研发与联盟形成 - 美国国防高级研究计划局和国家实验室主导EUV研究,1994年成立国家极紫外光刻计划 [16] - 1996年国会终止能源部资助后,英特尔投入2.5亿美元组建EUV-LLC联盟,联合摩托罗拉、AMD等公司,英特尔占95%股份 [18] - EUV-LLC实现所有技术目标,申请超150项专利,但ASML因中立地位获技术授权,尼康和佳能被排除在外 [19][20][22] - ASML与卡尔蔡司合作成为唯一成功开发EUV技术的公司,收购美国硅谷集团,另一授权商Ultratech Stepper放弃技术 [20] EUV商业化与市场格局 - ASML于2006年交付首台EUV原型机,但电源性能弱,美国Cymer公司研发激光等离子体电源后被ASML收购 [22] - 台积电、三星、英特尔于2012年分别向ASML投资10亿、10亿、40亿美元换取股份,推动EUV量产 [23] - ASML于2013年交付首台量产型EUV设备,台积电、英特尔、三星均采用其设备生产 [23] - 美国机构如DARPA、贝尔实验室、国家实验室贡献基础研究,但光刻设备市场由日本和欧洲公司主导,ASML占据EUV商业化最终阶段 [1][22][23]
刚刚,闻泰发声
半导体行业观察· 2025-11-23 11:21
公司控制权争端 - 闻泰科技发布声明,敦促安世荷兰回应沟通以解决控制权问题 [1] - 公司认为安世荷兰及其相关方的一系列单方面行为对全球半导体产业链稳定构成潜在威胁 [1] - 争端起源于荷兰经济部的不当干预 [1] 公司沟通努力与对方回应 - 在中国相关政府部门帮助下,公司已主动释放善意,明确表达愿意就恢复合法控制权进行建设性沟通 [1][3] - 尽管公司展现出最大诚意,安世荷兰方面迄今未对沟通提议作出任何实质性回应 [1][3] - 公司要求安世荷兰在尊重事实和法律基础上提出建设性解决方案以恢复合法控制权与完整股东权利 [1][3] 行业影响与呼吁 - 全球半导体产业的稳定关乎行业发展大局 [1][3] - 呼吁各方以理性、负责任态度行事,共同维护安世半导体的稳定与繁荣 [1][3] - 保障全球客户的供应链安全是重要关切点 [1][3]
HPC市场迎来十年最快增长
半导体行业观察· 2025-11-23 03:37
文章核心观点 - AI训练和推理集群架构推动数据中心基础设施支出空前增长,并对HPC架构产生反射性的有益影响 [1] - HPC-AI融合市场增长迅猛,远超历史平均水平,并预计在未来几年保持强劲增长势头 [1][4][5][17] HPC-AI市场整体规模与增长 - 2024年整体HPC-AI市场总销售额达599.3亿美元,同比增长23.5%,远高于7%到8%的历史平均增长率 [4] - 2024年本地部署HPC-AI系统收入为503.9亿美元,同比增长22.9%;云端HPC-AI系统销售额为95.4亿美元,增长4.9% [4] - 预计2025年整体HPC-AI市场收入将达5896.3亿美元,同比增长17%,其中云消费为123.8亿美元,本地部署系统为5775亿美元 [5] - 2025年上半年整体HPC-AI市场增长22%,与2024年23.5%的增长率接近 [17] - 预计HPC-AI支出增长将略微放缓,但在本十年结束前仍将保持在历史平均增长率两倍左右 [6] HPC-AI市场支出结构分析 - 2024年HPC-AI产品总支出599.3亿美元中,云计算消费模式占比15.9% [8] - 云端HPC-AI支出中存储占比30%,计算(含网络)支出为66.8亿美元,计算与存储比例为2.33:1 [8] - 本地HPC-AI支出中存储占比21.7%,计算支出为253.3亿美元,计算与存储比例为3.77:1,显示本地部署更侧重计算 [8] - 服务占HPC-AI预算相当大份额,软件份额相对较小,仅占5% [8] HPC与AI硬件销售趋势 - 传统HPC设备销售在2023年出现衰退后,于2024年反弹,并预计至2029年呈略微上升趋势 [12] - 预计在2027年年中左右,以AI为中心的硬件(超过50%工作负载是AI任务)销售额将超过以HPC为中心的硬件 [12] HPC-AI服务器市场竞争格局 - 2024年本地部署HPC-AI服务器市场总收入为253.32亿美元 [13] - HPE以71.51亿美元收入和28.2%的市场份额位居第一,戴尔以39.16亿美元和15.5%份额排名第二 [13] - 非传统供应商(ODM)合计收入69.34亿美元,市场份额达27.4%,几乎与HPE相当 [13][14] HPC-AI系统价格区间分布 - 2024年HPC-AI服务器收入按价格区间划分:领导力计算机(>1.5亿美元)占4.7%,超级计算机(1000万-1.5亿美元)占27.3%,大型HPC(100万-1000万美元)占27.9%,中型HPC(25万-100万美元)占15.7%,入门级HPC(<25万美元)占24.3% [14] - 中端市场(25万-100万美元)是最弱的价格区间 [14]
AMD Lisa Su:不担心AI泡沫,投资不够比较危险
半导体行业观察· 2025-11-23 03:37
AMD CEO对AI市场的战略观点 - AI市场是巨大的机会,算力需求永无止境,提供最好最可靠AI基础设施的公司将蓬勃发展[1] - 不担心AI泡沫,认为持怀疑态度者过于短视,未看到AI技术的真正潜力[1] - 科技公司对AI用途的探索还只是触及皮毛[1] AMD的竞争策略与市场机遇 - 现在不是隔岸观火的时候,投资不足比投资过度更危险,愿意大胆下重注者正取得回报[1] - 到2030年AI和数据中心运算市场规模将达到每年1万亿美元[1] - 产品比英伟达便宜,同等级硬件有时最多便宜20%[1] - 希望抓住AI市场从训练大型语言模型转向推理任务的机会[2] 分析师对AMD的评估 - 一些分析师认为AMD从英伟达手中抢走市占率远非板上钉钉[1] - 必须顺利实现2025年MI450发布,并向市场证明能按紧张时程表提供OpenAI所需全部算力[1]
三星2nm产能将增长163%
半导体行业观察· 2025-11-23 03:37
文章核心观点 - 三星电子代工业务在经历3纳米工艺初期的良率挑战后,技术已趋于稳定,并正通过提升2纳米工艺产能、采用灵活的定价策略以及获得关键客户订单,加速追赶市场领导者台积电,行业预计其代工业务有望从2027年开始实现盈利 [1][2][3][4] 技术进展与产能扩张 - 三星电子3纳米技术已稳定,并正致力于在2纳米工艺上缩小与台积电的差距 [1] - 三星电子2纳米产能将大幅提升163%,从2024年每月8,000片晶圆增至2025年底的每月21,000片晶圆 [2] - 三星电子2纳米工艺良率已显著提升至55%至60% [2] - 三星电子在3纳米工艺中率先引入全环栅技术,相较于台积电计划从2纳米才开始应用该技术,公司被认为积累了更早的多样化经验 [3] 客户获取与订单情况 - 三星电子凭借2纳米工艺获得价值165亿美元的特斯拉下一代AI6芯片生产合同 [2] - 公司还获得了内部Exynos 2600处理器、苹果图像传感器、中国公司MicroBT和Canaan的挖矿专用集成电路订单,并有望获得高通的应用处理器订单 [2] - 通过灵活的定价策略,三星电子成功吸引了包括美国AI芯片初创公司Chabarite、Anaphae以及韩国初创公司DeepX在内的新客户 [3] 市场竞争格局与策略 - 台积电在第二季度代工市场占据主导地位,市场份额为70.2%,而三星电子为7.3% [3] - 台积电面临主要客户订单集中问题,并将其2纳米晶圆价格比前几代提高了50%,这为三星电子通过灵活定价抢占利基市场创造了机会 [3] - 行业观察认为,若三星电子良率持续改善且美国泰勒工厂量产顺利,公司可能在尖端工艺上首次有意义地缩小与台积电的竞争差距 [2][3] 财务表现与未来展望 - 多年来录得季度数百亿韩元亏损的三星代工业务,预计将从2027年开始扭亏为盈 [4] - 盈利预期得益于奥斯汀工厂开工率提高,以及泰勒工厂从2027年开始大规模量产特斯拉AI6芯片 [4] - 公司表示已获得以2纳米工艺为中心的创纪录订单,预计随着新产品量产、开工率持续提升和成本效率措施实施,业绩将进一步改善 [4]