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极紫外光刻机(EUV)
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爱集微:2024年前道设备上市公司总收入同比增长37% 国产化进程持续推进
搜狐财经· 2025-07-22 12:12
行业整体表现 - 2024年前道设备行业上市公司总收入650.73亿元 同比增长37.05% 毛利率40.52% 研发占比14.95% [1] - 2024年全球集成电路装备销售额达1161亿美元创历史新高 中国大陆销售额491亿美元位居全球首位 [2] - 先进封装市场规模将从2023年378亿美元增至2029年695亿美元 年复合增长率显著 [2][3] 技术发展驱动因素 - AI/高性能计算/5G/6G技术推动算力密度需求 数据中心/自动驾驶领域要求低功耗高可靠性封装 [3] - 先进封装向多元化发展:2.5D/3D封装成为AI芯片核心方案 SiP在可穿戴/AR/VR领域占优 FOPLP满足5G与消费电子需求 混合键合技术推动高密度集成 [3] - 3nm/2nm先进制程扩产推动晶圆制造设备市场2027年预计突破1200亿美元 年复合增长率4.2% [3] 细分设备市场增长 - 刻蚀设备市场从2022年230亿美元增至2027年350亿美元 CAGR 8.7% Lam Research导体刻蚀设备收入2025年较2022年增长60% [4] - 薄膜沉积设备从2022年195亿美元增至2027年290亿美元 CAGR 8.3% ALD设备占比从25%升至35% [4] - 过程控制与检测设备从2022年78亿美元增至2027年130亿美元 CAGR 10.8% KLA晶圆缺陷检测市占率超50% [4] - 清洗设备从2022年65亿美元增至2027年95亿美元 CAGR 7.9% 单片清洗设备份额从45%升至60% [4] - CMP设备从2022年42亿美元增至2027年68亿美元 CAGR 10.1% Applied Materials占据超70%份额 [5] - 离子注入设备从2022年22亿美元增至2027年30亿美元 CAGR 6.4% 低能离子注入机需求加速渗透 [5] - 封装设备从2022年78亿美元增至2027年150亿美元 CAGR 14% 先进封装设备占比从30%升至55% [5] - 测试设备从2022年85亿美元增至2027年130亿美元 CAGR 8.8% AI芯片测试时间延长3-5倍 Teradyne高端测试机收入CAGR达22% [6] - 硅片制造设备从2022年25亿美元增至2027年40亿美元 CAGR 9.8% 中国厂商新增产能占全球35% [6] 国产化进展 - 去胶设备国产化率突出 屹唐股份/盛美上海处于国内领先地位 [7] - 清洗设备国产化率约20% 盛美上海设备中标量国内第二 至纯科技/北方华创/芯源微推动替代 [7] - 氧化扩散/热处理设备国产化率约28% 北方华创/屹唐股份/盛美上海中标量靠前 [7] - 刻蚀设备国产化率约23% 中微公司/北方华创/屹唐股份国内排名前三 [7] - 薄膜沉积设备国产化率持续提升 拓荆科技/北方华创/盛美上海中标量领先 [7] - 离子注入设备国产化率约3.1% 烁科中科/凯世通半导体推动国产化 [7] - 光刻设备国产化率仅约1% 主要由上海微电子承担 [7]
超300亿美元瞬间蒸发!ASMLCEO坦言担忧:2026年确实没信心了!
搜狐财经· 2025-07-19 02:36
ASML财报电话会议引发市场震荡 - ASML CEO表示"看不清2026年"导致公司股价暴跌11% 市值蒸发超300亿美元 [1] - 半导体板块集体跳水 欧洲科技股和美国半导体设备公司股价均下跌 [1][5] - 部分美国半导体公司股价上涨 主要受美国对华出口政策利好消息推动 [5] ASML业务现状与挑战 - 公司财报亮眼 营收和净利润均超出预期 [3] - 极紫外光刻机(EUV)订单增长速度不足 需翻倍才能达到2026年增长目标 [3] - 客户投资决策谨慎 新订单增长显著放缓 [5] - 30%关税使EUV光刻机成本从2亿美元飙升至2.6亿美元 影响客户采购决策 [5] 半导体行业前景 - ASML对未来迷茫引发对整个半导体产业前景的担忧 [3] - 关税政策引发贸易摩擦 可能波及美国、欧洲和亚洲市场 [5] - AI技术发展是长期趋势 但短期市场热情可能过高 [6] - AI应用依赖芯片 ASML掌握制造这些芯片的关键设备 [7] AI行业潜在风险 - 多数AI企业尚未盈利 仍在烧钱扩张 [7] - 投资热情冷却可能影响芯片厂商的设备采购计划 [7] - ASML警告可能预示着AI泡沫的破裂风险 [7]
阿斯麦(ASML.US)突砍增长预期 地缘政治阴云引爆4月来最大单日暴跌
智通财经网· 2025-07-16 11:17
公司业绩与预期 - 公司撤回2026年增长预期 因宏观经济与地缘政治不确定性加剧 [1] - 第三季度净销售额预计74-79亿欧元 低于分析师平均预估的82亿欧元 [2] - 维持全年营收增长15%的预期 [2] - 第二季度新增订单55亿欧元 超出市场预期 [6] - 2026年销售预期可能需下调7% 若与2025年持平 [5] 股价与市场反应 - 股价单日暴跌8 5%至646 30欧元 创4月7日以来最大跌幅 [1] - 过去一年股价累计下挫34% [1] - 美股盘前下挫约7% 并引发半导体设备板块集体下跌 [1] - 应用材料 泛林集团等美股同业跌幅均超2% [1] 行业与客户动态 - 客户推迟设备采购计划 等待关税和出口管制政策明朗化 [5] - 台积电 英特尔等主要客户受美国对华技术出口限制影响 [5] - 英特尔计划裁员逾20% 三星电子披露自2023年以来首次利润下滑 [5] - AI客户基本面依然强劲 数千亿美元资金涌入AI数据中心建设 [6] - 东京电子预计2026年晶圆制造设备市场将实现两位数增长 [5] 技术与产品优势 - 全球唯一能生产极紫外光刻机(EUV)的企业 [1] - EUV设备对生产尖端AI芯片至关重要 [1] - 将自明年起停止公布季度订单数据 认为该指标不能准确反映业务动能 [6] 地缘政治与贸易影响 - 设备可能面临贸易限制 特朗普政府政策不确定性扰乱市场 [1] - 中美贸易紧张局势缓和迹象可能带来转机 英伟达和AMD获准恢复对华销售部分AI芯片 [8] - 中国作为第二大市场贡献上季度系统销售额的27% 但荷兰政府禁止对华出口EUV设备 [8] - 美国"232条款"半导体设备调查结果即将公布 可能加征关税 [8] - 关税政策可能通过四大路径冲击业务 公司正构建防御体系 [8]
江宇舟:美国对我们的非关税制裁,也该到清算时刻了
观察者网· 2025-06-11 01:07
中美经贸关系与制裁体系 - 中美经贸磋商近期出现缓和迹象 但非关税制裁的长期性和危害性远超关税战 [1] - 美国构建了涵盖立法、行政、技术管制等多维度的对华制裁体系 涉及1065家中国实体被列入商务部"实体清单" 占总数近1/3 [10] - 制裁范围覆盖人工智能、芯片、量子计算等前沿科技领域 890家实体被财政部列入SDN清单 134家被国防部列入军事企业清单 [10] 美国立法层面的制裁手段 - 《2021年美国创新与竞争法案》包含《战略竞争法案》《无尽前沿法案》等子法案 明确在10个关键技术领域对中国设置排他条款 [5] - 《2022年芯片与科学法案》强制受补贴半导体企业在中美投资间"选边站" 限制在华投资规模 [6] - 2024年9月美国众议院一周内通过25项反华法案 涉及生物安全、无人机、电动汽车等多个产业领域 [8] 行政制裁与供应链审查 - 美国形成"实体清单"、"未核实清单"、"军事最终用户清单"等多元化制裁工具 华为等企业被切断关键技术获取渠道 [11] - 涉疆制裁导致3596批次中国货物被禁入美国 涉及光伏、电子、汽车等产品 2024-2025年新增66家中国企业被列入UFLPA清单 [14] - 行政部门协同开展供应链审查 国土安全部、国防部等多部门联合建立安全审查制度 [9] 技术管制与国际联盟 - 半导体管制从EUV光刻机扩展至DUV设备 14纳米以下制程设备全面禁售 [16] - 美国组建"芯片四方联盟"、"下一个G联盟"等产业排华组织 覆盖全球87%被管制产品的来源地 [20] - 技术管制范围从"小院高墙"演变为全面封锁 影响中国在AI、量子等领域的国际合作 [15][18] 企业应对困境与案例 - 中国企业在美国诉讼中面临证据不透明问题 政府提供的"机密版本"证据90%内容被涂黑 [28] - 涉疆制裁案件中 美国法院判决依据包含政治考量而非事实证据 企业自证清白成本高昂 [30] - 统计显示仅30%中国企业会选择仲裁争议 游说成本与政治捐款高度关联 [31] 产业影响与反制建议 - 美国制裁呈现"广、多、重"特征 电子信息、航天航空等前沿领域全面受限 制裁措施年均增长9倍 [33][34] - 建议完善《反外国制裁法》 建立跨部门协调机制 强化稀土等关键资源反制手段 [42] - 推动技术标准自主化与人民币国际化 构建"不可靠实体清单"等对冲工具 [43]
揭秘4亿美金光刻机的制造工厂
半导体行业观察· 2025-05-23 01:21
ASML高数值孔径(High NA)光刻机技术突破 - 高数值孔径(High NA)芯片制造设备造价超过4亿美元,是世界上最先进、最昂贵的芯片制造设备[1] - 该机器由四个模块组成,分别在康涅狄格州、加利福尼亚州、德国和荷兰制造,需要七架波音747飞机或25辆卡车运输[1] - 全球首个High NA商业化安装于英特尔,2024年将在俄勒冈州建造芯片制造厂,目前仅交付五台[1] - High NA采用与EUV相同工艺但镜头开口更大,可用更少步骤投射更小芯片设计[4][6] - High NA可将生产周期缩短60%,每秒完成更多操作,已生产约3万片晶圆,可靠性为前代两倍[2] ASML市场地位与客户情况 - ASML是EUV光刻机独家制造商,其设备是制造最先进微芯片的唯一选择[2] - 主要客户包括台积电、三星、英特尔、美光、SK海力士和Rapidus等[2] - 2024年售出44台EUV光刻机(起价2.2亿美元)和374台DUV光刻机(500万-9000万美元)[10] - DUV光刻机占2024年业务的60%,中国是主要买家占第二季度业务的49%[10] - 预计2025年中国市场业务将恢复至20%-25%的历史正常水平[10] 技术优势与行业影响 - High NA可提高良率,每片晶圆上可用芯片数量更多,降低芯片价格[4] - 通过避免多次图案化加快生产速度,晶圆上可容纳更多器件[4][5] - 自2018年以来已将每片晶圆曝光所需功率降低60%以上[7] - 下一代Hyper NA机器预计2032-2035年间出现需求,已开始设计光学草图[13] - 计划2024年再出货5台High NA系统,几年内产能提升至20台[13] 全球布局与供应链 - 在美国亚利桑那州建设首个培训中心,目标每年培训1200名EUV/DUV人员[13] - 全球拥有约800家供应商,4.4万名员工,其中8500人在美国18个办事处[11] - 2024年美国市场占比约17%且增长迅速,大部分High NA出货流向英特尔[11][12] - 亚洲市场长期占业务80%以上,英特尔对美国半导体独立发展"至关重要"[11][12]
30多家半导体大厂Q1财报:谁开始好起来了?
芯世相· 2025-05-07 05:36
全球半导体行业概况 - 2025年第一季度全球半导体销售额延续高增长,但芯片大厂业绩分化严重[1] - AI与存储相关企业业绩总体更好,汽车芯片大厂业绩仍惨淡[1] - 4月关税风波影响半导体产业链各个环节,多家大厂针对关税给出预测[1] 芯片设计(IDM)企业表现 国际厂商 - TI第一季度收入40.7亿美元,同比增长11%,中国市场占年收入约五分之一[2][3] - 意法半导体第一季度净营收25.2亿美元,同比下降27.3%,营业利润暴跌99.5%[4][5] - 恩智浦第一季度营收28.4亿美元,同比下降9%,汽车市场营收同比下滑7%[6] - 高通第一季度营收109.8亿美元,同比增长16.9%,手机业务两位数增长[7][8] - 联发科第一季度营收1533.12亿新台币,同比增长14.9%,AI/5G/WiFi 7需求提升[9] - AMD第一季度营收74.4亿美元,同比增长36%,数据中心部门增长57%[27][28] - 英特尔第一季度营收126.7亿美元,净亏损扩大至8亿美元,计划裁员2万人[29][30][31] - 博通第一季度营收149.2亿美元创纪录,同比增长25%,软件业务增长47%[32][33] 国内厂商 - 国内A股半导体公司超7成营收同比增长,60.63%公司净利润增长[34][35] - 寒武纪营收同比增长4230.22%,ST铖昌增长365.26%,芯动联科增长291.77%[36] - 韦尔股份2024年净利润同比增长2114.72%,2025Q1营收增长14.68%[37][38] - 兆易创新2025Q1营收19.09亿元,同比增长17.32%[39][40] - 瑞芯微2025Q1营收8.85亿元,同比增长62.95%,净利润增长209.65%[41][42] 晶圆制造与封测 - 台积电第一季度收入255.3亿美元,7nm及以下先进制程占比73%[42][43] - 联电22/28nm制程营收占比达37%,22nm营收季增46%[45][46] - 世界先进第一季度营收119.49亿新台币,净利创9季新高[47][48] - 日月光第一季度营收1481.5亿新台币,先进封装需求推升[51][52] - Amkor第一季度净销售额13.2亿美元,同比下降3.2%[49][50] 半导体设备与分销 - ASML第一季度营收77亿欧元,净利润同比大增92%,EUV设备需求强劲[53][54] - 泛林集团第一季度营收47.2亿美元,31%来自中国大陆[55][56] - 大联大第一季度营收2488.3亿新台币,创单季历史次高[57][58] - 文晔第一季度营收2474亿新台币,同比增长28%[59][60] - 艾睿第一季度全球元器件销售额同比下降8%[61][62] - 安富利销售额同比下滑6.0%,环比下滑6.1%[63][64] - 益登第一季度营收285.83亿新台币,同比增长15.65%[65][66] - 至上第一季度营收463.17亿新台币,存储价格走跌致营收下滑[67][68]
中国取得EUV技术重要突破,阿斯麦CEO还在嘴硬…
观察者网· 2025-04-29 05:55
中国EUV光源技术突破 - 中国研究人员建立运行参数具有国际竞争力的EUV光源实验平台 该平台对自主开展EUV光刻及其关键器件与技术的研发工作具有重要意义[1] - 研究团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所 由前ASML光源技术负责人林楠领导[1][4] - 团队开发出LPP-EUV光源 这是光刻机的核心部件 可能成为中国半导体行业的重大突破[7] 技术细节与性能 - 团队建立的实验平台基于固体激光器技术 与ASML采用的二氧化碳激光驱动技术不同[8] - 团队获得的最大转换效率为3.42% 处于国际靠前水平 超过商业化二氧化碳激光驱动EUV光刻光源效率的一半[10][11] - 理论最大转换效率可能接近6% 团队计划进一步研究以优化结果[2][11] 国际比较与行业背景 - 商用二氧化碳激光驱动的EUV光源转换效率约为5.5%[11] - 团队效率超过荷兰ARCNL在2019年记录的3.2%和瑞士苏黎世联邦理工学院在2021年记录的1.8%[11] - 但落后于美国中佛罗里达大学2007年的4.9%和日本宇都宫大学去年的4.7%[11] 行业影响与市场动态 - EUV光刻机已成为高端芯片大规模量产不可或缺的设备 目前仅ASML能够制造但对中国禁售[13] - ASML 2024年净销售额282.63亿欧元 同比增长2.55% 净利润75.71亿欧元 同比降低3.4%[16] - 中国大陆首次成为ASML第一大市场 销售额101.95亿欧元 占其全球总营收约36.1%[16] - ASML计划2025年在北京建立新的回收与维修中心[15]