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DDR4价格又飙 现货价两天再涨逾12%
经济日报· 2025-06-17 22:59
DDR4现货价格走势 - DDR4 16Gb(1G×16)3200现货价6月17日单日上涨6.32%至9.25美元,DDR4 4Gb(512M×16)单日暴涨8.77% [1] - 本周仅两个交易日DDR4 16Gb和8Gb规格分别累计上涨12.8%和16.13% [2] - 近三个交易日DDR4现货价累计涨幅已达20%,呈现加速上涨态势 [1] 市场供需动态 - 国际大厂退出DDR4生产叠加南亚科暂停报价,触发追价买盘涌入 [1] - 客户因价格上涨和供应吃紧出现恐慌性追货,推高市场需求 [2] - 现货市场"惜售"现象普遍,进一步加剧供应紧张情绪 [2] 行业趋势研判 - 当前涨势被描述为"很难停下来",可能延续至年底 [1] - 厂商库存虽仍存在,但追价抢货行为将导致库存管控难度增加 [2] - DRAM行业"追涨不追跌"特性在本轮行情中表现显著 [1]
赛道Hyper | SK海力士首超三星登顶DRAM市场
华尔街见闻· 2025-06-05 11:46
全球DRAM市场格局变动 - 2025年第一季度SK海力士以36.9%市占率超越三星电子(34.4%)成为全球最大DRAM供应商[1] - 全球DRAM销售额环比减少9%至263.3亿美元,SK海力士营收达97.2亿美元,三星电子营收同比下滑19%至91亿美元[1] - 此次变动终结三星持续33年的市场垄断,标志AI驱动下的存储技术迭代重塑行业竞争逻辑[1] HBM技术成为竞争核心 - SK海力士HBM3E产品采用12层堆叠技术,带宽1.2TB/s,单颗容量36GB,主要供应英伟达H200/B200等AI加速卡[2] - SK海力士HBM3细分领域市占率超90%,三星因HBM3E技术未通过英伟达测试导致高单价产品出货骤减[3] - SK海力士通过自研MR-MUF技术将HBM3E堆叠层数从8层提升至12层,良率表现较好[5] 制程技术与产能布局 - SK海力士1b nm DDR5产品能效比提升20%,三星1a nm制程良率提升遇瓶颈导致高端DDR5供应不足[3] - SK海力士计划2025年底将1b nm产能提升至每月9万片,并启动1c nm工艺研发目标晶体管密度再提升20%[6] - 三星1a nm制程EUV导入率达40%但良率提升缓慢制约规模效应[6] AI驱动存储需求升级 - 英伟达H100 GPU需配置640GB HBM3E和2TB DDR5内存,GPT-5级别模型需EB级存储支持[4] - SK海力士AI服务器市场份额超70%,HBM3E产品被微软"星际之门"、谷歌Gemini等超大规模AI项目采用[4] - 生成式AI模型参数规模指数级扩张对存储带宽和容量提出严苛要求[4] 产业链协同与封装技术 - 台积电将CoWoS产能70%分配给SK海力士确保HBM3E稳定供应[5] - SK海力士60%的TSV刻蚀设备来自科林研发,Syndion系列设备满足HBM封装需求[5] - 三星12层HBM3E产品量产时间推迟至2025年Q3丧失市场先机[5] 下一代技术研发进展 - SK海力士计划2025年下半年推出HBM4样品,16层堆叠产品带宽达2.56TB/s,单颗容量64GB[6] - 三星押注混合键合技术试图在HBM4E阶段反超但存在NAND与DRAM联产工艺兼容性问题[6] - SK海力士推出LPCAMM2存储模块支持40TOPS+算力需求并与联想、戴尔合作推动量产[6] 行业竞争范式转变 - 2025年Q1 SK海力士、三星、美光合计DRAM市占率超95%,SK海力士HBM市场份额超60%[7] - 普通DRAM均价跌超10%但HBM3E价格仅环比微降3%,AI相关存储产品成为抗周期支点[7] - 行业竞争从规模扩张转向技术纵深,技术卡位能力与产业链协同效率成为长期竞争力关键[7]
下一代DRAM,关注什么?
半导体行业观察· 2025-04-12 01:18
HBM市场增长趋势 - 高带宽存储器(HBM)市场正经历指数级增长,主要受人工智能工作负载和高性能计算应用激增推动[1] - 2023年HBM比特出货量同比增长187%,2024年飙升193%[1] - 全球HBM收入预计从2024年170亿美元增长至2030年980亿美元,复合年增长率达33%[1] - HBM在DRAM市场收益份额将从2024年18%扩大至2030年50%[1] - 2025年HBM生产能力已满负荷运行,凸显供应限制和产能扩张必要性[1] HBM行业竞争格局 - SK海力士目前市场领先,2024年末量产12Hi HBM3E,2025年初启动12Hi HBM4客户样品供应[5] - 三星加速市场地位巩固,开发HBM产品组合并研发4纳米逻辑芯片,计划2025年供应HBM4样品[8] - 美光2024年直接凭借HBM3E进入市场,为英伟达H200 GPU供货,目标2025年底达6万片/分钟产能[8] - 中国企业启动大规模投资打造国产替代产品,虽存在技术差距但受益于政府支持和行业网络[8] DRAM技术发展路径 - 平面DRAM预计将在2033-2034年0c/0d节点继续演进,利用架构和工艺创新结合[10] - 6F² DRAM单元结构将在2025年占据商用产品主导地位[10] - 未来需向基于垂直晶体管的4F²单元过渡,并集成CMOS键合阵列架构[13] - 0c/0d节点后向3D DRAM架构过渡将不可避免,主要DRAM制造商正探索多种架构路径[13] - 混合键合被视为未来HBM关键推动因素,预计2029年与HBM5一起进入市场[13]