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混合键合机
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HBM,另一场混战
半导体行业观察· 2025-09-12 01:14
行业技术竞争格局 - SEMECS、韩华半导体和韩美半导体三家韩国公司正加速混合键合机的量产准备 以争夺HBM4生产设备市场[1][2] - 混合键合机被视为下一代HBM市场的"游戏规则改变者" 无需凸块即可连接芯片 支持20层以上堆叠并减少电信号损耗[2] - 美国应用材料公司与荷兰Besi联合开发的混合键合机技术稳定性优于韩国公司 目前仍是三星电子和美光的优先供应商[3] 公司战略与进展 - SEMECS正与三星电子DS部门合作评估混合键合机 目标在2024年底或2025年向三星提供量产设备[1] - 韩华半导体计划2025年初推出混合键合机 2024年曾获SK海力士价值805亿韩元的TC键合机订单[2] - 韩美半导体投资1000亿韩元在仁川建设14,600平方米混合键合机工厂 预计2025年下半年竣工[2] 市场驱动因素与挑战 - 混合键合机设备价格比现有TC键合机高出两倍以上 三星和SK海力士希望通过本土供应商建立多供应商体系以降低采购成本[1][3] - 全球混合键合机市场规模预计从2023年约7万亿韩元增长至2033年20万亿韩元 受HBM需求增长驱动[3] - 技术竞争焦点在于DRAM堆叠和热控制等难题的攻克 以及设备稳定性的验证[1][3]
DRAM,生变
半导体行业观察· 2025-09-06 03:23
全球DRAM市场竞争格局 - SK海力士连续两个季度位居全球DRAM市场榜首 第二季度市场份额达39.5% 较第一季度36.9%提升2.6个百分点 [2] - 三星电子DRAM市场份额从第一季度34.4%下滑至第二季度33.3% 与SK海力士差距扩大至6.2个百分点 [2] - SK海力士第二季度DRAM营收达122.26亿美元 较三星电子的103亿美元高出19.26亿美元 为1992年以来首次有厂商超越三星 [2] HBM技术竞争态势 - SK海力士在HBM4质量测试阶段领先 计划本月向NVIDIA提交12层样品 预计9月完成2025年上半年供应合同 [3][4] - 三星电子HBM4测试进度落后约两个月 面临供应量和价格谈判能力削弱的风险 [3][4] - 三星电子采用4纳米工艺制造HBM4逻辑芯片 宣称解决发热和良率问题 性能优于采用台积电12纳米工艺的SK海力士和采用12纳米级DRAM工艺的美光 [5] HBM定制化趋势 - 微软、英伟达、博通等科技巨头要求定制HBM SK海力士已与三家达成定制供应协议并开始设计 [5] - 美光科技确认行业向定制化HBM发展 计划布局个性化产品 [6] - SK海力士宣布从HBM4E开始转向定制化 与台积电合作采用先进逻辑工艺 首批产品预计2025年下半年问世 [6] DDR4市场意外回暖 - 三大原厂计划2025年底停产DDR4导致供应短缺 DDR4 16Gb 3200现货价格达16美元 是DDR5价格的2.6倍 [7] - 三星和SK海力士将DDR4生产期限延长至2026年 因完全折旧生产线使DDR4利润率高于DDR5 [8] - 南亚科技等较小厂商同步延长DDR4生产 旧款芯片价格飙升至下一代产品水平 [8] 通用DRAM产能结构性紧张 - HBM生产占用晶圆产能 三星和SK海力士第三季度为HBM4样品投入每月1-2万片晶圆 导致通用DRAM产能下降 [10] - Omdia上调DRAM价格预测:服务器用64GB DDR5从255美元升至276美元 移动端8GB DDR5从18.7美元升至19.2美元 PC用16GB DDR5从44.7美元升至46.5美元 [11] - HBM低良率需增加晶圆投入 叠加设备投资集中于HBM 导致通用DRAM面临结构性供应制约 [10][11] 半导体设备技术升级 - SK海力士首次引进High NA EUV量产设备(ASML EXE:5200B) 分辨率比现有EUV提高40% 集成度提升2.9倍 [13][14] - 混合键合技术成为HBM竞争焦点 三星计划2025年用于HBM4 SK海力士拟用于HBM4E 性能可提升一倍以上 [14] - 应用材料收购Besi公司9%股份 韩系设备商(韩美半导体、韩华、LG电子)积极布局混合键合设备国产化 [15][16] 行业技术演进方向 - HBM技术向系统级整合发展 SK海力士将基础裸片代工交由台积电 标志DRAM厂商主导能力减弱 [18] - HBM制造需多方协同 涉及逻辑工艺、堆叠技术和封装技术的跨界整合 [18] - 技术迭代节奏加速 定制化HBM、混合键合和新型存储架构成为竞争核心 [18]
混合键合与TCB,先进封装两大热门
半导体行业观察· 2025-08-31 04:36
先进封装驱动后端设备市场增长 - 后端设备总收入预计从2025年69亿美元增长至2030年92亿美元,复合年增长率5.8% [2] - 增长主要由HBM堆栈、小芯片模块和高I/O衬底技术推动,重塑代工厂、IDM和OSAT的供应链及工厂建设 [2] - 高精度放置、对准、键合和保护系统成为市场核心驱动力 [2] 技术细分领域增长动力 - AI和高性能计算需求推动模块级带宽、近邻性和电源效率提升,要求封装不影响良率或节拍时间 [3] - 高精度键合机、热压集群和混合键合机成为关键设备,配套材料包括先进塑封料和底部填充化学品 [3] - 供应商涵盖互连(BESI、ASMPT、Kulicke & Soffa等)、晶圆准备(DISCO、ACCRETECH)、塑封(TOWA)和计量(KLA、Nova)领域 [3] 热压键合(TCB)技术现状 - TCB通过微凸块互连提供可靠堆叠,2025年收入预计5.42亿美元,2030年增至9.36亿美元,复合年增长率11.6% [6] - 订单量受HBM3E产能爬坡和堆栈厚度增加驱动,SK海力士和美光在2025年上半年大额采购 [6] - Hanmi处于领先地位,ASMPT强于逻辑应用,Hanwha Semitech凭借早期系统进入市场,其他参与者包括Kulicke & Soffa、Shinkawa等 [6] TCB技术挑战 - 无助焊剂工艺和更细间距要求更洁净铜表面、精准计量和精确温度控制 [9] - 设备供应商需整合无氧化物处理、实时反馈和混合键合升级能力,否则将面临堆叠高度增加带来的瓶颈 [9] 混合键合技术发展 - 混合键合消除凸点并将间距推至5微米以下,是未来小芯片和HBM的战略性技术 [11] - 设备营收预计从2025年1.52亿美元增至2030年3.97亿美元,复合年增长率21.1% [11] - 晶圆对晶圆(W2W)用于3D NAND,晶粒对晶圆(D2W)成为加速器封装焦点,AMD MI300展示逻辑-内存堆叠潜力 [11] 混合键合竞争格局 - BESI处于领先地位,ASMPT、SET和Shibaura市场份额随试产转量产增加 [12] - K&S、Hanwha Semitech和Capcon计划2025年发布新平台,EV Group、SUSS MicroTec和TEL活跃于W2W领域 [12] 生态系统合作与整合 - Applied Materials收购BESI 9%股份,加速开发集成晶粒对晶圆生产线,结合放置、清洗和计量技术 [15] - 前端与后端专业知识融合,以实现亚微米级套准和低损伤表面准备目标 [15] 倒装芯片键合市场 - 2025年倒装芯片键合机市场规模4.92亿美元,2030年预计达6.22亿美元 [17] - 高端FCBGA需求来自AI加速器和大型网络ASIC,ABF基板建设推动技术发展 [17] - 工艺向无助焊剂流程推进,减少残留物并提高可靠性,仍是先进基板和桥接设计的核心 [17] 晶圆制备与保护环节 - 晶圆减薄市场2025年规模5.82亿美元,2030年增至8.45亿美元,受TSV显露和超薄晶粒普及驱动 [19] - DISCO领先减薄领域,ACCRETECH紧随其后,瓶颈在于精度、应力管理和更洁净脱胶流程 [19] - 复杂堆叠和更大封装需要更好机械保护和翘曲控制,推动封装和塑封环节发展 [19] 结构性行业转变 - 封装已成为系统本身,带宽和能耗目标在中介层和堆栈中解决,性能瓶颈转移至晶粒级组装 [21] - 资本追随前端工艺控制引入封装生产线,供应商需跨越界限合作以实现表面准备、计量和放置性能一致 [22] 测试领域影响 - HBM堆叠后增加测试步骤,提高分类测试覆盖率以确保"已知良好晶粒" [22] - 小芯片模块推动系统级测试更广泛应用,验证不同域间交互,测试供应商针对AI设备的利用率和能力需求上升 [22]
封装设备大厂,利润狂飙
半导体芯闻· 2025-07-25 09:55
韩美半导体业绩表现 - 第二季度合并营收达1800亿韩元,营业利润达863亿韩元,营收同比增长45.8%,营业利润增长55.7%,营业利润率为47.9% [2] - 业绩增长主要受核心设备热压键合机(TC)销量推动,该设备是高带宽存储器(HBM)的关键工艺设备,供应给SK海力士和美光 [2] 韩美半导体投资计划 - 将在混合键合技术上投资1000亿韩元,计划2027年底推出混合键合机设备 [2] - 在仁川西区朱安国家工业园区投资1000亿韩元建设混合键合机工厂,预计明年下半年竣工,总建筑面积44,150坪(14,570平方米) [2] - 新工厂将生产下一代设备包括用于HBM的TC键合机、无助焊剂键合机、AI 2.5D封装的大芯片TC键合机以及用于HBM和逻辑半导体XPU的混合键合机 [2] 韩美半导体新产品进展 - 开始生产专为HBM4设计的TC Bonder 4设备,计划2025年下半年批量供应 [3] - HBM4性能比HBM3E提升60%,功耗仅为HBM3E的70%,最多可堆叠16层,每个DRAM芯片容量从24GB扩展到32GB [3] - TC Bonder 4精度显著提升以满足HBM4严苛规格要求,软件升级提升了易用性 [3] 韩美半导体技术支持 - 成立专门团队"Silver Phoenix",由50多名经验丰富工程师组成,负责支持TC Bonder 4系统的定制、维护和优化 [4]
混合键合太贵了,HBM 5还将使用TCB
半导体芯闻· 2025-07-16 10:44
韩美半导体技术路线与市场策略 核心观点 - 韩美半导体董事长郭东信明确反对在HBM4和HBM5生产中采用混合键合机系统,认为TC键合机更具成本效益且符合当前技术标准 [1] - 公司计划在2027年底推出用于HBM6的混合键合机,并最早于年内推出无助焊剂键合机,以抢占技术先机 [2] - 公司在HBM TC Bonder市场占据主导地位,2024年至今在NVIDIA HBM3E市场份额达90%,并计划到2027年将HBM4/HBM5市场份额提升至95% [1] 技术优势与成本分析 - 混合键合机单台成本超100亿韩元(约合TC键合机两倍以上),而JEDEC放宽AI封装厚度标准至775μm后,TC键合机完全满足HBM4/HBM5生产需求 [1] - 公司拥有NCF型、MR-MUF型等热压接技术,自称该领域"世界顶尖",并通过垂直生产体系(In-house)实现技术创新与成本优化 [2] 市场定位与战略布局 - 全球拥有约320家客户,已申请120项HBM设备专利,知识产权布局始于2002年 [2] - 公司认为AI市场增长将推动高规格键合机需求,正积极投资技术开发与产能扩张以应对需求 [2] 行业动态关联 - 文章推荐阅读中提及HBM技术被NVIDIA CEO黄仁勋称为"技术奇迹",侧面印证HBM在半导体行业的重要性 [4]
LG杀入混合键合设备赛道
半导体芯闻· 2025-07-14 10:48
LG电子进军半导体设备市场 - LG电子正研发用于高带宽存储器(HBM)的混合键合机 正式进军半导体设备市场[1] - 该举措与LG集团会长具光模对AI业务的关注高度契合 也与公司近期B2B业务扩张战略一致[1] - 公司计划与三星电子 韩华半导体等已进入HBM制造设备市场的企业展开技术竞争[1] - LG电子生产工程研究院已启动混合键合机研发 目标2028年实现量产[1] - 研究院将扩大半导体封装技术团队 招募高端人才 并与学术界开展合作[1] 混合键合机技术特点 - 混合键合机是用于连接多个半导体芯片的关键设备 技术不同于现有热压键合机[2] - 该技术无需使用"凸块"作为中间端子 可直接堆叠芯片 具有更薄组合和更低发热优势[2] - 目前技术已应用于NAND闪存和系统半导体领域 但尚未实现HBM商业化[2] - LG电子认为该技术成功开发将快速扩大销售额 确立其在半导体设备市场地位[2] 市场机会与竞争格局 - 半导体混合键合机领域领先企业包括荷兰Besi和美国应用材料公司[3] - 三星电子计划年内开始使用混合键合机生产第六代HBM(HBM4)[3] - SK海力士可能将该技术应用于第七代产品(HBM4E)[3] - 三星电子通过子公司SEMES开发HBM生产线用混合键合机[3] - 韩华半导体已向SK海力士供应TC键合机 正投资混合键合机早期商业化[3] LG电子B2B业务表现 - LG电子B2B业务(含汽车零部件和暖通空调系统)今年销售额预计超20万亿韩元[2] - B2B业务规模已与主力消费家电业务相当[2] - 混合键合机成功开发有望赢得SK海力士 美光科技和三星电子等客户[2]
传LG电子研发HBM混合键合设备 瞄准AI芯片关键技术
智通财经网· 2025-07-14 03:54
公司动态 - LG电子股价因媒体报道其研发用于AI处理器的存储芯片制造工具而上涨 [1] - 公司计划在2028年实现HBM芯片用混合键合机的大规模生产 但具体时间未确定 [1] - LG电子正在进行HBM混合键合机的技术研究 [1] 行业竞争 - 韩国其他生产混合式封装设备的公司包括韩美半导体 Semes 韩华半导体技术部门 [4] - 韩美半导体股价周一跌幅达6.5% Hanwha Vision下跌4.7% 三星电子下跌1.3% [4] - 混合键合市场进入门槛高 已有实力雄厚的企业参与 [4] - 潜在国际竞争对手包括ASMPT和BE Semiconductor Industries NV [4] 技术背景 - HBM芯片由一系列DRAM芯片组成 混合键合对其制造至关重要 [1] - 混合键合技术可实现更薄的芯片堆叠 通过直接粘合相邻层电极 [1] 市场观点 - 分析师认为市场持续增长时探索新业务有意义 但需验证现有企业优势 [4] - LG电子可能面临研发和资本支出增加带来的盈利压力 销售额贡献在2030年前或受限 [4]