2025年上半年，全球半导体设备市场正经历一场前所未有的动荡与调整。这是一个充满矛盾 的时期：一方面，全球整体市场看似仍在稳步扩张，SEMI的最新数据显示，2025年全球半导 体设备市场预计将达到1108亿美元，同比增长6.2%，而2026年这一数字将继续增长至1221亿 美元，同比增长10.2%；但另一方面，从宏观数据到微观的企业财报，都揭示出传统增长模式 正在面临严峻挑战。 那么，增长的动力究竟来自何方？市场的"危"与"机"又体现在哪里？ 需求与政策：双重转向 当前市场的复杂性，主要源于需求节奏与政策壁垒的双重转向。 从 需求端 来看，作为全球最大的半导体设备市场，中国市场的变化是理解当前局面的关键。在 2023-2024年，中国曾是全球WFE（前道设备）的最大买家，为全球半导体下行期提供了相对韧 性。然而，经过设备密集采购后，行业已进入一个全新的周期——良率爬坡与产能利用率成为主旋 律，追加设备的边际回报短期下降，需求自然放缓。正如东京电子（TEL）所指出的，中国新兴厂 商的成熟制程投资正在减少。 数据也印证了这一趋势。TechInsights预计2025年中国设备购买额将同比下降6%，而SEMI的一版 ...

投资评级 - 维持"买入"评级 [8][11] 核心财务表现 - 2025H1总营业收入49.61亿元，同比增长43.88%，归母净利润7.06亿元，同比增长36.62%，扣非归母净利润5.39亿元，同比增长11.49% [2][5] - 2025Q2营收27.87亿元，同比增长51.26%，环比增长28.25%，归母净利润3.93亿元，同比增长46.82%，环比增长25.47%，扣非归母净利润2.40亿元，同比增长9.16%，环比下滑19.39% [2][5] - 预计2025-2026年营收119亿元、154亿元，归母净利润24.0亿元、33.0亿元，对应PE分别为56倍、41倍 [11] 业务分项表现 - 刻蚀设备销售约37.81亿元，同比增长约40.12% [11] - LPCVD设备销售约1.99亿元，同比增长约608.19% [11] - 高端刻蚀产品新增付运量显著提升，在先进逻辑和存储器件关键刻蚀工艺实现大规模量产 [11] 研发与平台化进展 - 2025H1研发投入14.92亿元，同比增长53.70%，占营业收入比例30.07% [11] - CCP刻蚀设备累计装机量超过4500个反应台，较2024年同期增长超过900个 [11] - ICP刻蚀设备累计装机量超过1200个反应台，在50多个客户生产线大规模量产 [11] - MOCVD设备保持氮化镓基市场领先地位，Mini-LED设备国际领先，Micro-LED设备获重复订单 [11] - 薄膜沉积设备已推出六款产品（包括CVD钨、HAR钨、ALD钨、ALD氮化钛、ALD钛铝、ALD氮化钽），EPI设备研发进展顺利 [11] 产能扩张计划 - 南昌14万平方米基地和上海临港18万平方米基地已投入使用 [11] - 上海临港滴水湖畔10万平方米总部大楼暨研发中心建设中 [11] - 规划在广州增城区及成都高新区新建生产和研发基地 [11] 运营数据与订单储备 - 存货和合同负债同环比提升，印证订单增长 [11] - 当前股价214.17元，总股本6.26亿股，流通A股6.26亿股 [9]

核心财务表现 - 2025H1营收49.61亿元，同比增长43.88%，归母净利润7.06亿元，同比增长36.62% [1] - 2025Q2单季度营收27.87亿元，同比增长51.26%，环比增长28.25%，归母净利润3.93亿元，同比增长46.82% [1] - 扣非归母净利润5.39亿元，同比增长11.49%，但Q2单季环比下降19.39% [1] 产品收入结构 - 刻蚀设备2025H1销售收入37.81亿元，同比增长40.12%，因高端产品在先进逻辑和存储制造中出货量显著提升 [2] - LPCVD设备2025H1销售收入1.99亿元，同比增长608.19%，超过2024年全年规模，多款设备获重复订单 [2] 盈利能力与研发投入 - 综合毛利率39.86%，同比下降1.47个百分点，归母净利率14.23%，同比下降0.76个百分点 [3] - 研发费用同比大幅增长96.65%，研发投入总额14.92亿元，占营收比例30.07% [3] - 公允价值变动收益和投资收益合计1.68亿元，较2024H1亏损0.08亿元增加1.76亿元 [3] 技术研发与产品进展 - 刻蚀设备覆盖28纳米及以上绝大部分应用，超高深宽比刻蚀机（深宽比60:1）大规模用于先进存储产线 [4] - 薄膜沉积设备已推出6款产品，钨系列通过关键存储客户端验证，ALD设备完成多个先进逻辑客户验证 [4] - 量检测设备通过新设超微公司开发电子束检测设备，MOCVD设备在碳化硅功率器件和Micro-LED应用取得进展 [4] 机构业绩预测 - 预计2025-2027年营收120.12/155.44/199.74亿元，同比增长32.51%/29.41%/28.50% [5] - 预计同期归母净利润21.31/30.60/39.95亿元，同比增长31.91%/43.60%/30.53% [5] - 当前股价对应PE为66/46/35倍，90天内17家机构中13家给予买入评级，4家增持，目标均价224.11元 [5][10]

财务表现 - 2025年上半年营业收入49.61亿元 同比增长43.88% [1] - 归属于母公司净利润7.06亿元 同比增长36.62% [1] - 毛利润较去年同期增加5.52亿元 [3] - 研发投入14.92亿元 同比增长53.70% 占营业收入比重30.07% [1][4] 产品与业务 - 刻蚀设备销售额37.81亿元 同比增长40.12% 覆盖95%以上刻蚀应用 技术延伸至5纳米及更先进制程 [2] - LPCVD设备销售1.99亿元 同比增长608.19% [2] - 高端刻蚀产品在先进逻辑和存储器件中实现大规模量产 [2] - MOCVD设备成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商 [4] - 在研项目涵盖六大类设备20多款新产品 包括CCP/ICP刻蚀设备、金属刻蚀、LPCVD、ALD、外延EPI等 [1] 技术与研发 - 已申请专利3038项 其中发明专利2507项 已获授权专利1901项 其中发明专利1593项 [5] - 采用矩阵式研发管理 独立团队与共享资源结合 [5] - 研发流程包含概念与可行性、Alpha、Beta、量产四个阶段 [5] - 模块化平台化设计缩短新品开发周期 [6] - 布局量检测设备领域 成立子公司"超微公司" [2] 市场与行业 - 半导体制造设备销售额2026年有望达1300亿美元 中国和韩国是主要支出区域 [7] - 中国大陆2030年预计成为全球最大半导体晶圆代工中心 产能占比从2024年21%提升至30% [7] - 绑定中芯国际、长江存储、长鑫存储等头部客户 [8] - 直接触达终端晶圆厂商 深度参与产线规划 [8] 经营策略 - 坚持技术创新、产品差异化和知识产权保护三大原则 [1] - 构建"设备+工艺+服务"生态闭环 形成长期稳定现金牛业务 [7] - 通过规模效应摊薄单位生产成本 [3] - 优化产品结构提高高附加值产品占比 [3] - 采用"预研—量产—迭代"三级研发体系 [6]

投资评级 - 维持"推荐"评级 [1] 核心观点 - 业绩符合预期 2025年上半年实现营收49 61亿元 同比增长43 88% 归属净利润7 06亿元 同比增长36 62% [4][8] - 受益半导体设备国产化趋势 作为国内半导体设备平台型企业 在刻蚀 MOCVD等设备领域保持领先地位并持续推进国产替代 [1][8][9] - 研发投入持续加大 2025年上半年研发投入14 92亿元 同比增长53 70% 占营收比例达30 07% 涵盖六类设备开发 [8] - 产品线不断丰富 刻蚀设备 CCP累计装机超4500反应台 ICP超1200反应台 MOCVD设备保持国际领先 EPI设备进入先进制程验证阶段 [8][9] - 财务表现稳健 预计2025-2027年归母净利润分别为23 63亿元 30 84亿元 40 59亿元 对应PE 60倍 46倍 35倍 [7][9] 财务数据 - 营收增长强劲 2024年营收90 65亿元 同比增长44 7% 预计2025-2027年营收持续保持30%增速 [7][11] - 盈利能力改善 预计2025-2027年毛利率稳定在43% 净利率从17 8%提升至20 4% ROE从8 2%提升至14 2% [7][11] - 每股指标提升 预计EPS从2024年2 58元增至2027年6 48元 每股净资产从31 52元增至45 54元 [7][11] - 资产负债结构健康 资产负债率预计从24 7%升至32 7% 流动比率保持在2 6以上 无短期借款 [10][11] 业务进展 - 刻蚀设备销售亮眼 2025年上半年刻蚀设备销售37 81亿元 同比增长40 12% LPCVD设备销售1 99亿元 同比增长608 19% [8] - 高端产品突破 PrimoHD-RIEe累计装机超120反应台 PrimoUD-RIE超200反应台 在先进逻辑和存储器件中实现大规模量产 [8][9] - 国际市场拓展 12英寸深硅刻蚀设备在欧洲客户产线获得认证机会 PrimoMenova金属刻蚀设备付运国内重要客户验证 [8][9] - MOCVD设备领先 PRISMO UniMax在Mini-LED显示设备领域国际领先 自2021年发布以来获客户广泛认可 [9] - EPI设备进展 减压EPI设备进入先进制程工艺验证和客户验证阶段 研发团队开发出自主知识产权平台 [9]

中芯国际业绩表现 - 上半年营收323.48亿元，同比增长23.1% [2] - 归母净利润23.01亿元，同比增长39.8% [2] - 晶圆销售数量468.2万片（折合8英寸），同比增长19.9% [2] - 平均售价6482元，上年同期为6171元 [2] - 晶圆代工业务收入303.53亿元，同比增长25.9% [2] - 研发投入23.75亿元，占营收比重7.3% [3] - 累计授权专利1.42万件，其中发明专利1.23万件 [3] 中微公司业绩与技术进展 - 上半年营收49.61亿元，同比增长43.88% [2][3] - 归母净利润7.06亿元，同比增长36.62% [2] - 研发投入14.92亿元，同比增长53.7%，占营收比重超30% [3] - 刻蚀设备收入37.81亿元，同比增长40.1%，覆盖95%以上刻蚀应用 [3] - 薄膜沉积设备收入同比增长608.2% [4] - 计划通过有机生长和外延扩展覆盖50%-60%半导体高端设备市场 [4] 微导纳米业务突破 - 上半年营收10.50亿元，同比增长33.42% [6] - 归母净利润1.92亿元，同比增长348.95% [6] - 半导体设备收入1.94亿元，同比增长27.17%，占营收比重18.45% [7] - 半导体领域在手订单23.28亿元，较年初增长54.72% [7] - 光伏设备收入8.03亿元，同比增长31.53% [7] - 研发投入1.53亿元，占营收比重14.59% [8] - 拟发行可转债募资11.7亿元扩大半导体设备产能 [8] 格力电器经营状况 - 上半年营收973.25亿元，同比下滑2.46% [10] - 净利润144.12亿元，同比增长1.95% [10] - 消费电器收入762.8亿元，同比减少5.09% [12] - 工业制品及绿色能源、智能装备收入均增长超15% [12] - 外销收入163.35亿元，同比增长10.19%，占营收比重16.71% [15] - 研发投入38.92亿元，同比增长7.05% [13] - 累计申请专利131921项，发明专利授权28229项 [13] 影石创新业务扩张 - 上半年营收36.71亿元，同比增长51.17% [17] - 归母净利润5.20亿元，同比增长0.25% [17] - 研发费用5.61亿元，同比翻倍，占营收比例15.30% [18] - 拥有境内外授权专利近1000项，其中发明专利222项 [18] - 全景相机全球市占率67.2%，运动相机市占率全球第二 [20] - 计划推出自有品牌及联合品牌全景无人机 [20] - 产品覆盖全球200多个国家和地区 [20]

财务表现 - 营业收入49.61亿元 同比增长43.88% [1][6] - 净利润7.06亿元 同比增长36.62% [1][6] - 毛利率39.85% 较去年同期41.33%略有下降 主要受产品结构影响 [6] - 经营性现金流2.03亿元 同比下降46.87% 主要因营运资金需求增加 [6][7] 核心业务进展 - 刻蚀设备销售额37.81亿元 占总营收76% 同比增长40.12% [2][6] - LPCVD设备销售额1.99亿元 同比大增608.19% [3][6] - CCP刻蚀设备累计装机超4500个反应台 较去年同期增长超900个反应台 [2][6] - 双反应台产品累计装机突破3300个反应台 [2] - 5纳米及以下逻辑器件制造高端产品实现大规模量产 [3][6] 研发投入 - 研发费用14.92亿元 占营收比例高达30.07% [4][6] - 研发投入同比增长54% 几乎相当于去年全年水平 [5] - 研发投入资本化比重从去年同期39.6%下降至20.7% [5] - 在研项目涵盖六类设备 包含多个关键制程工艺核心设备开发 [5] - 预计总投资规模超过40亿元 [5] 盈利质量 - 扣非净利润增速仅11.5% 与净利润增速差距主要来自1.67亿元投资收益和公允价值变动收益 [7] - 存货增加10.4亿元 应收账款增加6亿元 [7] - 现金流增速明显滞后于利润增速 [7]

核心财务表现 - 2025年上半年营业收入49.61亿元 同比增长43.88% [1] - 归属于母公司净利润7.06亿元 同比增长36.62% [1] - 研发投入14.92亿元 同比增长53.7% 研发费用率30.07% 显著高于科创板10%-15%的平均水平 [1] - 对外股权投资产生收益1.68亿元 较2024年同期亏损0.08亿元改善1.76亿元 [1] 刻蚀设备业务 - 刻蚀设备销售收入37.81亿元 同比增长40.12% 占总收入75%以上 [1][2] - 技术覆盖95%以上刻蚀应用 延伸至5纳米及更先进制程 [2] - 高端产品在先进逻辑和存储器件关键刻蚀工艺实现大规模量产 [1] 薄膜沉积设备业务 - LPCVD设备销售收入1.99亿元 同比增长608.19% [1][3] - ALD设备系列产品通过多个先进逻辑客户验证 薄膜性能达世界先进水平 [3] - 钨系列产品通过关键存储客户端量产验证并获批量订单 [3] 技术研发与产品布局 - 新产品开发周期缩短至两年内 在研项目覆盖六大类设备二十余款新品 [2] - 研发项目包括新一代CCP/ICP刻蚀设备、薄膜沉积设备、外延设备及量检测设备 [2] - MOCVD设备在氮化镓基LED市场保持领先 并拓展至碳化硅、氮化镓功率器件等新兴领域 [3] 产能扩张与基地建设 - 上海临港和南昌高新区生产基地产能稳步提升 [4] - 临港10万平方米总部研发大楼预计2025年底建成 [4] - 启动广州增城区和成都高新区新研发生产基地建设 [4] 行业前景与战略规划 - SEMI预测2025年全球半导体设备市场规模达1210亿美元 2026年将增长至1390亿美元 [4] - 公司计划通过有机生长和外延扩展覆盖半导体高端设备50%-60%市场 [3] - 长期愿景成为全球第一梯队半导体设备公司 [4]

财务表现 - 2025年上半年营业收入49.61亿元，同比增长43.88% [1] - 归属于上市公司股东的净利润7.06亿元，同比增长36.62% [1] - 基本每股收益1.13元 [1] 产品业务 - 刻蚀设备销售约37.81亿元，同比增长约40.12% [1] - LPCVD设备销售约1.99亿元，同比增长约608.19% [1] - 高端刻蚀产品新增付运量显著提升，在先进逻辑和存储器件关键工艺中实现大规模量产 [1]

财务表现 - 2025年上半年营业收入49.61亿元，同比增长43.88% [1] - 归属于上市公司股东的净利润7.06亿元，同比增长36.62% [1] - 基本每股收益1.13元 [1] 产品业务 - 刻蚀设备销售约37.81亿元，同比增长约40.12% [1] - LPCVD设备销售约1.99亿元，同比增长约608.19% [1] - 高端刻蚀产品新增付运量显著提升，在先进逻辑和存储器件关键工艺中实现大规模量产 [1]