记者丨彭新 编辑丨朱益民 刘雪莹 近期，作为半导体制造最核心环节的光刻机赛道走热，国产产业链相关标的在二级市场热度空前，A股 光刻机产业链标的波动，高度吸引着市场的目光。 9月24日，21世纪经济报道记者在上海国家会展中心举办的第二十五届中国国际工业博览会上看到，上 海微电子（SMEE）展台上首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置，及其部分技术内容的对外 披露。 行业脉动直接传导至二级市场，叠加近期半导体行业涨价预期不断催化的影响，光刻机概念涨势如虹。 9月24日，光刻机概念龙头张江高科（600895.SH）涨停，股价再创历史新高；同期，江丰电子 （300666.SZ）涨超17%，联合化学(301209.SZ)、先锋精科(688605.SH)、洪田股份(603800.SH)、富创精 密(688409.SH)涨超5%。时间线拉长，截至9月26日，Wind光刻机指数近一年涨幅近130%，其中9月24 日创下阶段新高。 根据张江高科此前互动易披露消息，公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子 公司22345万元，持有上海微电子公司10.779%的股权。 江丰电子为光刻工艺的前道工序（沉积）提 ...

光刻机行业动态 - 上海微电子首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置并披露部分技术内容 [3] - 光刻机概念在二级市场热度空前 Wind光刻机指数近一年涨幅近130% 9月24日创下阶段新高 [3] - 光刻机概念龙头张江高科涨停 股价再创历史新高 江丰电子涨超17% 联合化学 先锋精科 洪田股份 富创精密涨超5% [3] 国产光刻机产业链布局 - 张江高科通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资上海微电子22345万元 持有10.779%股权 [5] - 江丰电子为光刻工艺前道工序提供关键材料 后道工序提供精密零部件 其研发的28nm以下节点光刻机核心冷却部件已进入量产阶段 [5] - 上海微电子为国产光刻机绝对龙头 出货量占国内市场份额超过80% 产品涉及ArF KrF和i-line领域 具备90nm及以下芯片制造能力 [9] - 光刻机国产化率仅2.5% 中国大陆市场主要依赖荷兰 日本等地进口 出口管制下供给不确定性上升 [5][9] 全球光刻机市场格局 - 阿斯麦（ASML）占据全球八成以上市场 垄断最高端EUV市场 2025年二季度净销售额77亿欧元同比增长23% 净利润23亿欧元同比增长45% [7] - 当季ASML光刻机系统销售收入56亿欧元 其中EUV销售额27亿欧元 非EUV销售额29亿欧元 售出EUV 11台 DUV 64台 [7] - 日本光刻机厂商尼康 佳能市场份额仅个位数 出货以成熟制程设备为主 佳能聚焦i-line领域 尼康除EUV外均有涉猎 [8] 技术突破与产业链协同 - 国内光刻机产业链包括上游设备及配套材料 中游系统集成和生产 下游应用三大环节 [11] - 科益虹源研发248nm准分子激光器 干式193nm准分子激光器 福晶科技研发KBBF晶体 中科院研发40瓦干式准分子激光光源 [13] - 国望光学研发90nm节点ArF光刻机曝光光学系统 110nm节点KrF光刻机曝光光学系统 中科科仪研发直线式劳埃透镜镀膜装置 纳米聚焦镜镀膜装置 [14] - 波长光电 捷众科技 国林科技 南京化纤等公司披露在光刻机或半导体领域的关联布局 但营收规模较小或处于初期阶段 [14][15] 发展挑战与战略路径 - 国产光刻机与国际领先水平存在技术限制 高端技术受制于国外供应商 需要上下游同心协力攻坚 [9][11] - 光刻机作为高壁垒 重资本 高风险行业 发展有赖"举国体制"之力 需要国家牵头 科研院所与关键公司参与实现供应链自主可控 [15] - 上海微电子和几大院所的科技研发成果为国内光刻机发展风向标 值得长期关注 [15]

近期，作为半导体制造最核心环节的光刻机赛道走热，国产产业链相关标的在二级市场热度空前，A股光刻机产业链标的波动，高度吸引着市 场的目光。 9月24日，21世纪经济报道记者在上海国家会展中心举办的第二十五届中国国际工业博览会上看到，上海微电子（SMEE）展台上首次公开亮相 极紫外（EUV）投影微场曝光装置，及其部分技术内容的对外披露。 行业脉动直接传导至二级市场，叠加近期半导体行业涨价预期不断催化的影响，光刻机概念涨势如虹。 9 月 24 日 ， 光 刻 机 概 念 龙 头 张 江 高 科 （ 600895.SH ） 涨 停 ， 股 价 再 创 历 史 新 高 ； 同 期 ， 江 丰 电 子 （ 300666.SZ ） 涨 超 17% ， 联 合 化 学 (301209.SZ)、先锋精科(688605.SH)、洪田股份(603800.SH)、富创精密(688409.SH)涨超5%。时间线拉长，截至9月26日， Wind光刻机指数 近一年涨幅近130% ，其中9月24日创下阶段新高。 记者丨彭新 编辑丨朱益民 刘雪莹 | ４７７０.４４ 昨收 4947.24 成交额 360.84亿 -176.79 -3.57% ...

21世纪经济报道记者 彭新 近期，作为半导体制造最核心环节的光刻机赛道走热，国产产业链相关标的在二级市场热度空前，A股 光刻机产业链标的波动，高度吸引着市场的目光。 9月24日，21世纪经济报道记者在上海国家会展中心举办的第二十五届中国国际工业博览会上看到，上 海微电子（SMEE）展台上首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置，及其部分技术内容的对外 披露。 行业脉动直接传导至二级市场，叠加近期半导体行业涨价预期不断催化的影响，光刻机概念涨势如虹。 9月24日，光刻机概念龙头张江高科（600895.SH）涨停，股价再创历史新高；同期，江丰电子 （300666.SZ）涨超17%，联合化学(301209.SZ)、先锋精科(688605.SH)、洪田股份(603800.SH)、富创精 密(688409.SH)涨超5%。 根据张江高科此前互动易披露消息，公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子 公司22345万元，持有上海微电子公司10.779%的股权。 江丰电子为光刻工艺的前道工序（沉积）提供关键材料，并为后道工序（刻蚀）等相关设备提供精密零 部件。 据其此前年报披露，江丰电子研发的"半导体用 ...

9月24日，A股三大指数震荡上行，半导体设备板块领涨市场。 相关ETF方面，截至发稿，科创半导体设备ETF（588710）涨9.81%，现居全市场涨幅榜前五，成交额 超2.57亿元。成分股中，神工股份涨停，盛美上海、华海清科、安集科技等多股跟涨。 华鑫证券表示，在国家政策支持下，国内企业加速研发突破光刻机制造技术，目前国产光刻机在 90nm 及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的 600系列光刻机已实现 90nm 工艺 的量产，并正在进行 28nm 浸没式光刻机的研发工作。近期，宇量昇与中芯国际的合作测试是国产光刻 机突破的重要信号。随着光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、 光学部件等 "卡脖子" 材料的国产化进程，形成 "龙头带动、多点突破"的产业升级格局。 （本文机构观点来自持牌证券机构，不构成任何投资建议，亦不代表平台观点，请投资人独立判断和决 策。） 科创半导体设备ETF（588710）跟踪上证科创板半导体材料设备主题指数，该指数选取科创板内业务涉 及半导体材料和半导体设备等领域的上市公司证券作为指数样本，以反映科创板半导体材料和设备上市 公司证券 ...

光刻机国产化技术突破 - 上海微电子首次公开极紫外（EUV）光刻机参数图，芯上微装获工博会最高荣誉及集成电路创新成果奖 [1] - 国产光刻机实现90nm工艺量产，上海微电子600系列光刻机已量产90nm工艺，28nm浸没式光刻机研发中 [3] - 国产EUV进入原理机搭建阶段，干法DUV近期进入量产测试阶段，先进封装机台正式量产 [3] 产业链协同发展与公司进展 - 张江高科通过子公司投资上海微电子22,345万元，持股10.779% [4] - 波长光电光刻机相关业务包括反射镜、聚焦镜等光学元器件，应用于掩膜光刻、直写光刻等场景 [4] - 江丰电子开发28nm以下节点光刻机核心冷却部件，已进入量产阶段 [4] - 芯碁微装WLP 2000晶圆级直写光刻设备获中道头部客户重复订单，实现2μm线宽/线距 [4] 行业需求与外部环境 - 中国光刻机需求量较大但国产化率极低，美国自2018年起限制对华出口EUV及先进DUV光刻机 [5] - 光刻机技术突破带动上游材料、光学部件等国产化，形成"龙头带动、多点突破"产业格局 [3] 市场表现与机构关注 - 光刻机概念股40余只，机构关注度较高个股包括芯碁微装（18家机构评级）、江丰电子（13家）、富创精密（13家）等 [6] - 杠杆资金净买入超亿元个股包括腾景科技（5.23亿元）、芯碁微装（4.66亿元）、炬光科技（1.82亿元）等 [7][8] 成长性预测 - 富创精密、同飞股份等机构一致预测2026及2027年净利增速均超30% [6] - 芯碁微装、江丰电子等机构一致预测2026及2027年净利增速均超20% [6]

行业技术突破 - 上海微电子首次公开极紫外光刻机参数图并展示概念验证机 国产EUV进入原理机搭建阶段 [2][4] - 国产光刻机在90nm及以下节点取得重要进展 上海微电子600系列光刻机实现90nm工艺量产 28nm浸没式光刻机正在研发中 [4] - 芯碁微装WLP 2000晶圆级直写光刻设备实现2um线宽/线距 已获中道头部客户重复订单 PLP3000板级设备实现3um线宽/线距 [6] 产业链协同发展 - 光刻机技术突破带动上游材料与精密机械产业升级 加速光刻胶、光学部件等卡脖子材料国产化进程 [4] - 波长光电光刻机相关业务包括反射镜、聚焦镜等光学元器件 应用于掩膜光刻、直写光刻、封装测试等场景 [6] - 江丰电子开发多层钛合金扩散焊接技术 制备28nm以下节点光刻机核心冷却部件 已进入量产阶段 [6] 市场表现与资本关注 - 光刻机概念龙头张江高科涨停并创历史新高 其子公司持有上海微电子10.779%股权 投资金额2.2345亿元 [2][6] - 9月以来杠杆资金净买入超亿元个股包括：腾景科技5.23亿元、芯碁微装4.66亿元、炬光科技1.82亿元、波长光电1.13亿元 [8][10] - 机构关注度较高个股：芯碁微装(18家)、江丰电子(13家)、富创精密(13家)、蓝特光学(11家)评级机构数量均超10家 [7][10] 企业成长性预期 - 富创精密、同飞股份、广立微等7家公司机构预测2026-2027年净利润增速均超30% [7][10] - 芯碁微装机构预测2026年净利润增速46.91% 2027年增速27.62% [10] - 炬光科技机构预测2026年净利润增速4230.77% 2027年增速113.85% [10]

行业与公司 * 光刻机行业 半导体制造设备行业[1] * 阿斯麦公司 ASML 全球光刻机市场领导者 市场份额超过60% 在EUV领域近乎垄断[1][17] * 国产光刻机 中国本土光刻机研发与制造[19][20] 核心观点与论据 **光刻机的重要性与价值构成** * 光刻机是半导体制造核心设备 与薄膜沉积和刻蚀设备并列为三大核心 在半导体设备市场中价值占比约为20%[1][2] * 光刻机的主要任务是将掩膜板上的图形投射到晶圆表面以形成图案 每一层工艺操作都需要使用光刻技术[2] * 光学系统是光刻机价值量最高的部分 占比达整个设备价值的30%-40%[1][14] * 光刻机的核心部件包括腔体 真空泵 机械臂 阀门和管道等 这些系统在整个光刻机中的价值量占比超过60%[1][15] **光刻机性能的关键指标与技术路径** * 分辨率是衡量光刻机性能的关键指标 决定了两个点之间最小可分辨的间距[4] * 提升分辨率的三大路径 缩短光源波长 例如从436纳米汞灯到13.5纳米EUV 增大数值孔径 NA 以及优化工艺因子[1][4] * EUV 极紫外 是当前最先进的光源技术 其13.5纳米波长能实现更高分辨率 使现代高端芯片制造成为可能[1][5] * 数值孔径 NA 是影响分辨率的重要指标 NA越大 能实现的分辨率越小 静默式光刻机通过在镜头与晶圆间加入水介质提高折射率 从而增大NA 将输出孔径从134纳米提升至150纳米左右[1][6] * 工艺因子的优化涉及掩模板 照明系统及临近效应修正等多种因素 通过优化可将分辨率提高一倍 例如从0.5提升至0.25[10][11] **主要子系统及其功能** * 光源系统负责提供曝光能量 DUV使用准分子激光器 EUV使用极紫外线 价值量占比约10%以上[12] * 工件台系统控制晶圆运动 采用双工件台配置以提升效率 处理速度可达每小时300至400片 对精度要求极高[13] * 光学系统涵盖从激光器发出光到修整引导光路的全过程 包括各种透镜和反射元件[14] * 光刻机镜头设计复杂 需通过多片正负透镜组合来优化光路 控制纳米级误差 光物镜价值量占比至少2% 成本比重超20%[7][8] **行业发展历程与竞争格局** * 光刻机技术最早由美国研发 日本后在政府支持的VRSI计划下整合五大巨头 其半导体产业在1980年代达到顶峰 全球市占率超40% 存储器市场份额超60%[16][18] * 阿斯麦 ASML 成立于1984年 通过与台积电等客户深度合作及技术创新 静默式技术和EUV 实现反超并成为全球领导者[1][16][17] * 阿斯麦的成功关键在于布局供应链 与Cemer合作光源 与蔡司合作物镜 并自主开发工件台[1][17] **国产光刻机的现状与未来** * 国产光刻机研发起步较早但进展滞后 目前主要集中于低端产品 但近年来已取得显著突破[3][19] * 未来发展关键在于解决零部件供应链"卡脖子"问题 实现从低到高的逐步发展[3][20][21] * 在政府支持下 参考日本发展模式 国产光刻机有望实现突破[20] **投资视角与市场空间** * 光刻机是半导体设备板块中最具潜力的方向 其突破意义重大[3][22] * 上游供应链的盈利能力和价值量最高[3][22] * 投资者应关注DUV技术 并密切关注EUV技术的进展 这将进一步扩大市场空间并提升盈利能力[3][22][23] * 许多上市公司已在光刻机领域进行产品布局 具有较高投资价值[23]

纪要涉及的行业和公司 - **行业**：光刻机、人工智能、学前教育、电学检测、丁酮、智能输配电、电源模块、智能驾驶、生态环境、AI眼镜、固态设备、智能网联汽车、激光、医学、芯片、规划、军工装备、医药 - **公司**：波长光电、福晶科技、上海微电子、茂莱光学、腾景科技、永新光学、中润光学、晶方科技、清溢光电、冠石科技、路维光电、珂玛科技、炬光科技、旭光电子、美埃科技、蓝英装备、电科数字、汇成真空、奥普光电、芯碁微装、东方嘉盛、京华激光、同飞股份、直真科技、华丰科技、创益通、金信诺、因赛集团、鼎捷数智、汉王科技、赛意信息、海天瑞声、利欧股份、石基信息、意华股份、得润电子、瑞可达、拓维信息、神州数码、四川长虹、瑞贝卡、广电运通、软通动力、兴森科技、川润股份、凯旺科技、强瑞技术、光迅科技、泰嘉股份、欧陆通、利和兴、润达医疗、创业黑马、佳发教育、税友股份、焦点科技、泛微网络、新易盛、中际旭创、剑桥科技、德科立、东田微、胜宏科技、沪电股份、生益电子、鹏鼎控股、景旺电子、爱婴室、和晶科技、孩子王、创源股份、奥飞娱乐、珠江钢琴、世纪天鸿、凤凰传媒、中信出版、时代出版、华媒控股、竞业达、鸿合科技、豆神教育、方直科技、昂立教育、通达创智、贝因美、骑士乳业、品渥食品、天润乳业、燕塘乳业、博杰股份、齐翔腾达、宇新股份、中电鑫龙、新雷能、多伦科技、文科股份、佳禾智能、恒玄科技、英派斯、博士眼镜、明月镜片、值得买、商汤科技、纳科诺尔、锦江在线、小马智行、锦江出租、星辰智能体、亿境虚拟、英诺激光、迈普医学、东芯股份、砺算科技、蕾奥规划、天和防务、众生药业 核心观点和论据 1. **光刻机行业** - **核心观点**：国产化持续推进，500nm突破标志可覆盖更广泛场景，满足国内70%成熟制程需求，全球光刻机市场规模呈增长趋势[2] - **论据**：中国自主研发的EUV光刻机预计第三季度迈入试生产阶段，芯上微装前道500nm i线光刻机已发货至核心头部fab厂客户端进行量产验证；2024年全球光刻设备市场规模达295.7亿美元（同比+9.0%），预计到2029年将达378.1亿美元，2024 - 2034复合增长率为5.0%[2] 2. **人工智能行业** - **核心观点**：WAIC2025召开，GPT5即将发布，人工智能各领域有新进展和突破[7] - **论据**：华为首次线下展出昇腾384超节点，算力总规模达300Pflops；京东发布行业首个100%开源的企业级智能体JoyAgen；自2025年5月更多Agent产品推出并起量；GPT5在全模态融合能力、推理能力等方向实现核心技术突破升级，计算效率提升50%，幻觉率降低40%[7][8] 3. **学前教育行业** - **核心观点**：国常会提出逐步推行免费学前教育，相关公司有望受益[12] - **论据**：会议指出要指导各地细化工作方案，安排好补助资金；爱婴室、和晶科技等公司在学前教育领域有相关业务布局[12] 4. **电学检测行业（博杰股份）** - **核心观点**：Nvidia AI芯片组维修需求激增，公司作为N客户供应商有望受益[14] - **论据**：2025年7月25日盘中网传Nvidia AI芯片组维修需求激增，公司AI服务器业务比重占20%左右，为N客户实验室自研服务器产品做检测[14] 5. **丁酮行业（齐翔腾达）** - **核心观点**：丁酮量价齐升，公司作为甲乙酮行业领军企业受益[15] - **论据**：2025年7月23日欧洲亮牌丁酮装置关停，丁酮价格从6月低点6250元/吨飙升至7月25日9200元/吨，累计涨幅达47.2%，6月出口量达3.01万吨创年内新高；公司拥有设计产能26万吨/年的甲乙酮装置，国外业务占比44.83%[15] 6. **智能输配电行业（中电鑫龙）** - **核心观点**：公司产品适用于水利工程，且在数据中心和磁电存储领域有布局[16] - **论据**：2025年7月24日互动显示公司智能输配电设备可适用于水利工程项目，已有部分产品应用于国家重点水利工程；与华为在智慧城市、大数据中心建设等方面合作；曾定增20亿拟用于磁光电存储技术[16] 7. **电源模块行业（新雷能）** - **核心观点**：网传公司供GB200机柜中电源模块，对应较大市场规模，公司在数据中心和军工领域有业务[17] - **论据**：按单台200KW、3元/W、一年4万台机柜计算，对应240亿元市场规模，若公司10%份额，对应24亿元收入；重点开展相关电源研发，与新华三合作；特种电源业务占比超90%[17] 8. **智能驾驶行业（多伦科技）** - **核心观点**：公司是华为昇腾AI产业链重要合作伙伴，在智能驾驶和机器人领域有进展[18] - **论据**：与华为昇腾合作完成多项产品认证，依托昇腾创建人工智能算力中心；旗下“多多驾到”接入大模型赋能产品；官宣对众擎机器人战略投资并成立研究中心[18] 9. **生态环境行业（文科股份）** - **核心观点**：跟进雅下环境生态工程，公司深耕生态环境领域且拟进行重组[19] - **论据**：2025年7月26日消息公司跟进雅鲁藏布江项目环境生态工程业务；公司深耕生态环境领域营收占比85.02%；拟进行债权重组和债务重组[19] 10. **其他题材** - **AI眼镜**：阿里巴巴发布首款自研AI眼镜“夸克AI眼镜”技术研发进展，融合阿里和支付宝生态[19] - **固态设备（纳科诺尔）**：有望成为固态设备平台型企业，按中期固态电池扩产量测算可为公司贡献约17亿元利润[20] - **智能网联汽车（锦江在线）**：小马智行联合锦江出租逐步向公众开放自动驾驶出行服务[20] - **激光（英诺激光）**：为上海微电子光源系统重要合作伙伴，激光器已进入其供应链名单[21] - **医学（迈普医学）**：颅颔面修补产品有望抢占传统钛材料市场，部分产品预计集采落地后放量[21] - **芯片（东芯股份）**：砺算科技发布首款全自研GPU芯片及显卡产品，提升游戏帧率[21] - **规划（蕾奥规划）**：召开AI产品发布会，销售逐步展开，入选联通合作伙伴招募项目[22] - **军工装备（天和防务）**：军工装备业务以新一代综合近程防御系统为核心，核心产品已列装部队[22] - **医药（众生药业）**：收到原料药氯贝酸铝上市申请批准通知书，预计市场规模增长[22] 其他重要但可能被忽略的内容 1. **光刻机行业**：光源系统是光刻机最为核心的环节，目前全球仅ASML子公司Cymer和日本Gigaphoton可供应EUV光源；光学系统对光路进行优化处理；工件台系统控制晶圆及掩模版运动，ASML的TWINSCAN双工件台系统提高晶圆制造效率但对控制精度要求高；光刻机内部还包括晶圆传输系统、减震系统等，曝光需在特制洁净室[2][3] 2. **人工智能行业**：WAIC2025集中发布多项政策成果及技术应用成果，如上海高级别自动驾驶引领区发展行动方案等[18] 3. **学前教育行业**：学前教育是针对3 - 6岁儿童在进入小学前接受的正规教育，包括幼儿园和学前班教育[12] 4. **丁酮行业**：甲乙酮有时会被作为光刻胶剥离剂或清洗剂成分之一[15] 5. **智能输配电行业**：中电鑫龙与华为在智慧城市、大数据中心建设等方面合作，曾联合中标苏州市人工智能算力中心项目[16] 6. **电源模块行业**：新雷能重点开展比例变换器模块等研发，与新华三签署战略合作协议[17] 7. **智能驾驶行业**：多伦科技旗下“多多驾到”接入国内领先Al大模型DeepSeek，打造新一代“驾培智能体”与“语音交互智能体”[18] 8. **生态环境行业**：文科股份深耕生态环境领域，在大项目施工管理等多方面表现卓著，拟进行债权重组和债务重组以加速债务剥离及资产盘活[19]

报告行业投资评级 - 看好丨维持 [11] 报告的核心观点 - 通过对光刻机关键技术、关键工艺环节的分析以及对光刻机行业格局的复盘，我国光刻机产业或可充分发挥后发优势，集中力量攻克核心环节，最终实现国产自主之路 [4] 根据相关目录分别进行总结 灿若星河，光刻机加冕半导体皇冠 - 光刻是晶圆制造中最重要的技术之一，核心设备光刻机直接决定晶圆制造产线的技术水平，也是晶圆制造工艺中价值量和技术壁垒最高的设备之一 [22] - 光刻技术的核心是使用光刻机将芯片的设计图案转移至硅片，加工步骤分为曝光、显影和清洗三个阶段 [24] - 分辨率是光刻系统能够实现的最小精度，也是光刻曝光系统最重要的技术指标之一，为提高分辨率，工程中常用的方式包括增大投影光刻物镜的数值孔径、采用更短的工作波长、减小光刻工艺因子等 [28][32] - 光刻机的关键尺寸（分辨率）与集成电路的核心物理参数存在对应关系，ASML 将光刻工艺的关键尺寸（分辨率）定义为半周期间距 [34][35] - 影响光刻机加工的集成电路关键尺寸的因素有光源波长λ、数值孔径 NA 以及工艺因子 k1，减小特征尺寸提高精度的主要方式为光源波长的缩短，当波长缩短到当时科技的极限时，主要的攻克方向逐渐变为增大 NA 以及缩小 k1，直到更短波长的光源被发现并大规模应用 [39] - 光源波长的发展历程经历汞灯、准分子激光器、EUV 光源三个阶段，减小光刻机所用光源波长是优化分辨率最直接有效的方式 [43] - 当光源演进触及技术瓶颈时，增大数值孔径成为减小光刻机分辨率另一有效的方式，数值孔径的计算公式为 NA=nsinθ，增大 NA 的方式包含增大透镜工作介质的折射率或增大透镜的收光能力 [51] - 工艺因子 k1 包含因素多样，RET 技术可增大 k1，增强分辨率，主要方法包括邻近效应修正、离轴照明、使用具有相移的掩模版、添加亚分辨率的辅助图形等 [74] 百川归海，光刻机零件聚焦三大核心 - 光刻机内部最核心的环节主要在于光源系统、光学系统、工件台系统，除以上三大核心环节，光刻机内部还包括晶圆传输系统、减震系统、外部的操纵台，并且光刻机的曝光还需要在特制的洁净室 [77] - 光源系统为光刻过程提供能量，是光刻机最关键的环节，由早期的高压汞灯，发展至准分子激光器系统，再到现在的 EUV 光源，光源系统的升级极大缩小了波长，是提高光刻机分辨率最重要的方式 [82] - 光源系统具备极高壁垒，全球供应商寥寥可数，目前全球仅 ASML 的子公司 Cymer 和日本的 Gigaphoton 可供应 EUV 光源，我国科益虹源紧随其后成为目前全球第三家 DUV 光源供应商 [83] - 光学系统不仅是光的传播路径，同时可以缩小像差，增大收光角，进而提高分辨率，对于 DUV 光刻机需要采用 29 片透镜，而 EUV 光刻机则需要蔡司定制的平整度小于 0.05nm 的反射镜 [88][89] - 工件台系统主要功能是负责控制硅片步进运动，同时重点要兼顾掩模版、晶圆和双工件台的实时对准，ASML 提出的双工件台系统极大提升光刻的精度与效率，目前除 ASML 外，我国华卓精科打破技术壁垒，最先进的水平可实现支持浸润式光刻机 ArFi 的双工件台 [91] 筚路蓝缕，复盘光刻机龙头波澜历程 - 光刻机发展历史大致可分为三个主要阶段，各大龙头相互替代关键因素在于技术迭代升级，根据光刻机产业重心来看，经历了美国—日本—荷兰（ASML）的迁移过程 [94] - 凭借极高的技术壁垒，全球光刻机市场“一超双强”格局基本稳定，从销售台数看，21 世纪后光刻机市场基本由三巨头 ASML，佳能以及尼康垄断，CR3 接近 100%，其中 ASML 市占率近 60%独占鳌头，从产品布局看，ASML 在先进制程优势显著，尼康占据 ArFi 光刻机剩下的不到 10%份额，而佳能光刻机主要覆盖 i 线以及 KrF 等相对低端制程 [97] - 1960~1980 年，美国作为半导体技术的发源地，在早期近乎垄断了半导体制造业，其中具备代表性的龙头为 GCA 以及 Perkin Elmer，美国光刻机行业的先发优势受到严重冲击 [94][110] - 1980~2000 年，受益于 PC 崛起带动的存储需求爆发以及政府的大力扶持，日本半导体产业迅速崛起，尼康与佳能两大光刻机巨头实现对美国的反超，日本光刻机的崛起见证了举国体制下后发优势的充分发挥，或可成为我国良好的借鉴 [94][111][130] - 2000 至今，在光源波长达到 193nm 后，尼康选择攻克下一代 157nm 但遇到较大阻力，而 ASML 联合台积电转向浸润式光刻机，实现等效的 134nm 波长，而后续 ASML 在 EUV 光刻机的垄断正式奠定全球光刻机龙头地位 [94] 风起青萍，国产光刻路虽远行则将至 - 我国光刻机产业起步并不晚，但早期缺乏产业链的全面布局以及自主化的决心，发展历程缓慢，90 年代光刻机发展趋于停滞，没能延续起步阶段积累的优势 [145] - 自主化战略确立，政策扶持下国内光刻机行业扬帆再起，近年来在政府扶持和统一规划明确分工的前提下，后发优势凸显 [146] - 上海微电子是“02”专项光刻机项目承担主体，其封装光刻机在全球市场占有 40%以上的份额，国内市场占有率超 90%，在 IC 前道制造领域，公司 SSX600 系列步进扫描投影光刻机可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求 [150] - 国内多家公司在光刻机光学、整机、功能件等领域取得进展，可应用于光刻机等设备 [151]