光刻机行业动态 - 上海微电子首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置并披露部分技术内容 [3] - 光刻机概念在二级市场热度空前 Wind光刻机指数近一年涨幅近130% 9月24日创下阶段新高 [3] - 光刻机概念龙头张江高科涨停 股价再创历史新高 江丰电子涨超17% 联合化学 先锋精科 洪田股份 富创精密涨超5% [3] 国产光刻机产业链布局 - 张江高科通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资上海微电子22345万元 持有10.779%股权 [5] - 江丰电子为光刻工艺前道工序提供关键材料 后道工序提供精密零部件 其研发的28nm以下节点光刻机核心冷却部件已进入量产阶段 [5] - 上海微电子为国产光刻机绝对龙头 出货量占国内市场份额超过80% 产品涉及ArF KrF和i-line领域 具备90nm及以下芯片制造能力 [9] - 光刻机国产化率仅2.5% 中国大陆市场主要依赖荷兰 日本等地进口 出口管制下供给不确定性上升 [5][9] 全球光刻机市场格局 - 阿斯麦（ASML）占据全球八成以上市场 垄断最高端EUV市场 2025年二季度净销售额77亿欧元同比增长23% 净利润23亿欧元同比增长45% [7] - 当季ASML光刻机系统销售收入56亿欧元 其中EUV销售额27亿欧元 非EUV销售额29亿欧元 售出EUV 11台 DUV 64台 [7] - 日本光刻机厂商尼康 佳能市场份额仅个位数 出货以成熟制程设备为主 佳能聚焦i-line领域 尼康除EUV外均有涉猎 [8] 技术突破与产业链协同 - 国内光刻机产业链包括上游设备及配套材料 中游系统集成和生产 下游应用三大环节 [11] - 科益虹源研发248nm准分子激光器 干式193nm准分子激光器 福晶科技研发KBBF晶体 中科院研发40瓦干式准分子激光光源 [13] - 国望光学研发90nm节点ArF光刻机曝光光学系统 110nm节点KrF光刻机曝光光学系统 中科科仪研发直线式劳埃透镜镀膜装置 纳米聚焦镜镀膜装置 [14] - 波长光电 捷众科技 国林科技 南京化纤等公司披露在光刻机或半导体领域的关联布局 但营收规模较小或处于初期阶段 [14][15] 发展挑战与战略路径 - 国产光刻机与国际领先水平存在技术限制 高端技术受制于国外供应商 需要上下游同心协力攻坚 [9][11] - 光刻机作为高壁垒 重资本 高风险行业 发展有赖"举国体制"之力 需要国家牵头 科研院所与关键公司参与实现供应链自主可控 [15] - 上海微电子和几大院所的科技研发成果为国内光刻机发展风向标 值得长期关注 [15]