从左至右：20nm 间距线结构，11nm 和 13nm 尖到尖 CD，以及 18nm 间距和 16nm 尖到尖。 它一直与光刻设备公司 AMSL 合作。 公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 比利时研究实验室 Imec 在加利福尼亚州蒙特雷举行的"SPIE 光掩模技术 + EUV 光刻"会议上展示了 单次印刷高数值孔径 EUV 光刻技术的进展： " 我 们 实 现 了 20 纳 米 和 18 纳 米 间 距 的 钌 线 ， 包 括 15 纳 米 的 尖 端 结 构 和 低 电 阻 功 能 互 连 ， "Imec 表 示。"对于20纳米间距的金属化线结构，获得了100%的电气测试良率。" 该成果部分由欧盟的"NanoIC"试验线实现，并将在会议论文 13686-4"干光刻胶在High NAEUV 光 刻中向下一代线空间图案化的进展"中发表。 Imec 规模化副总裁 Steven Scheer 表示："ASML-imec 高数值孔径 EUV 联合实验室在费尔德霍芬 正式启用后，imec 及其合作伙伴生态系统在推动光刻技术发展和推动行业迈入埃时代方面取得了长 足进步。此次展示的成果标志着一个新的里程碑，彰 ...

战略合作与技术创新 - imec与蔡司半导体制造技术公司(SMT)签署战略合作伙伴协议(SPA)，将合作延长至2029年，共同推进2纳米以下半导体技术的研发[1][3] - 双方自1997年起已开展多项联合项目，旨在延续摩尔定律，推动微芯片和内存处理器性能提升[3] - 合作重点包括高数值孔径EUV光刻技术，该技术对生产更强大、更节能的AI、自动驾驶、工业4.0等关键应用芯片至关重要[3] 试验生产线扩展 - imec正在比利时鲁汶扩展NanoIC试验线，涵盖半导体制造全价值链和技术链[5] - 蔡司将通过提供集成到ASML光刻扫描仪系统的光学元件支持试验线，并参与制造、工艺和测量技术研究项目[5] - 试验线旨在为行业提供先进半导体技术平台，用于创新探索、开发和测试，同时优化现有设备和方法以实现更小、更强、更节能的芯片[5] 行业合作与欧洲战略 - 双方合作符合《欧洲芯片法》目标，旨在加强欧洲技术主权、竞争力和韧性[7] - 蔡司对imec试验线的投资有助于保持欧洲在最新半导体设备领域的领先地位[7] - 该战略伙伴关系体现了欧洲合作伙伴间的凝聚力，对建立全球最先进的2纳米以下研发基础设施NanoIC试验线至关重要[8]