公司背景与历史 - 白俄罗斯Planar公司（又名KB-TEM）成立于1963年，是苏联电子工业体系的重要组成部分，专注于光刻设备、半导体制造技术及精密仪器研发 [4] - 苏联解体后公司转为国有主导的市场化运营，扩展产品线至光刻机和半导体封装设备，成为独联体国家半导体产业链关键供应商 [4] - 公司核心优势在于低成本、高可靠性设备，适用于教育、科研及中小规模生产，被俄罗斯、白俄罗斯科研院所及中国、印度市场采用 [5] 技术发展历程 - 苏联50年代末筹建微电子工业，60年代中期诞生首台接触式光刻机（光学部件依赖东德蔡司） [7] - 1978年启动同步辐射加速器研发探索极紫外（EUV）光源，1987年列别捷夫物理研究所公布全球领先的EUV光刻成果 [7] - 白俄罗斯在苏联时期承担光刻机精密工件台、位移传感器及光学镀膜工艺开发，形成"理论—工程—制造"完整链条 [8] 产品与技术能力 - 2025年俄罗斯发布首台350nm光刻机，由ZNTC与Planar联合研发 [2] - 主要产品包括接近/接触式光刻机（最高支持亚微米级精度）和激光直写光刻机（无需光罩直接输出图形） [10][12][14] - 光罩制造领域具备激光直写光刻、光学缺陷检测及飞秒激光物理烧蚀修复技术，支持i line到KrF技术节点 [16][18] 市场竞争与挑战 - 接近/接触式光刻机性能无法满足大规模集成电路需求，但仍在科研、MEMS制造及SiC功率器件领域应用 [12] - 激光直写光刻市场面临德国海德堡仪器、锐时、奥地利EV Group等国际竞争 [14] - 与日本V-Technology相比存在产品交付和维保支持能力不足的短板 [19] 行业地位与机遇 - 被称为苏联光刻技术"活化石"，是苏联微电子工业物质与技术载体 [14] - 地缘政治变化促使中俄发展自主半导体技术，为公司带来市场机遇 [14][19] - 若无法实现产品线全面升级，传统客户可能转变为竞争对手 [19]