三星HBM业务复苏与竞争策略 - 三星半导体业务因美国大型科技公司代工订单而出现复苏迹象 市场关注其内存芯片业务能否延续此势头[2] - 三星HBM3E认证原计划Q3完成 但多位分析师预测可能延期至Q4 摩根士丹利预计8月底完成认证 Q4开始为英伟达量产[2] - 高盛报告指出三星预计下半年HBM3E销售组合占比达90% 意味着将向主要客户全面出货12-high堆叠版本[2] - 三星在财报电话会议中表示计划下半年HBM3E销量较上半年"大幅提升" 并承认供应增长可能超过需求增长 暂时影响市场价格[3] - 三星已向英伟达交付12英寸HBM4样品 工程样品计划8月发布 客户样品11月发布 主要客户最终认证预计明年2月完成[3] 下一代DRAM技术竞争格局 - 三星采用更先进的1c工艺（10纳米级第六代）开发HBM4芯片 而SK海力士采用上一代1b工艺（11-12纳米级第五代）[4][6] - 1c工艺通过缩小电路线宽提升芯片性能和能效 但过渡到更先进技术需要更高成本 可能面临冗余度扩大和投资增加的问题[4][6] - 三星计划比SK海力士提前3-4个月量产1c DRAM 若成功向英伟达供应HBM4 有望重夺30年来首次失去的DRAM市场领先地位[6] - 三星已于Q1开始订购1c DRAM生产设备 预计年底完成生产线建设 SK海力士计划Q3开始订购设备 明年实现量产[7] - 2025年Q1 DRAM市场份额数据显示 SK海力士占36.9% 超过三星的38.6% 三星因DRAM质量问题和HBM产量损失导致地位下滑[7] SK海力士EUV技术发展 - SK海力士积极将EUV工艺应用于下一代DRAM开发 计划在1c DRAM中应用至少5层EUV 较上一代1b DRAM的4层进一步增加[10] - EUV波长13.5纳米 是传统工艺材料ArF的十三分之一 适用于超精细电路层 其余层仍使用深紫外（DUV）等传统工艺[10] - 公司致力于开发提高EUV工艺生产率的方法 并积极应对高数值孔径（High-NA）EUV技术 计划最早明年推出NA 0.55设备[11] - 高NA EUV面临掩模版开发挑战 因光线扩散角度增大会导致入射角和反射角重叠 需采用"变形"技术防止重叠但需两个掩模版[11] - SK海力士表示尚未开发出用于High-NA EUV的掩模版 因控制"缝合"区域（掩模版接触重叠区）相当困难 仍在探索材料方案[11]