公司产品与技术突破 - 上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收并发往客户现场 [1] - AST6200光刻机是高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景定制 [1] - 该产品基于公司多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀 [1] 行业意义与公司战略 - 此次交付标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破 [1] - 首台AST6200的发运只是一个开始，公司将以此为契机与产业链上下游伙伴紧密协作 [3] - 公司计划加速推进国产光刻设备在更多应用场景的落地与验证 [3]

产品发布与里程碑 - 公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收并发往客户现场[1] - 该事件标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破 是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的里程碑[1] 产品定位与核心技术 - AST6200是公司基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备[3] - 产品专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制[3] - 设备搭载公司自主研发的全栈式软件控制系统 从底层驱动到上层工艺管理实现完全自主主权 具备强大的工艺扩展性与远程运维能力[7] 核心性能亮点 - 搭载大数值孔径投影物镜 结合多种照明模式与可变光瞳技术 实现350nm高分辨率 满足主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求[7] - 配置高精度对准系统 实现正面套刻80nm 背面套刻500nm 确保多层图形精准套刻以提升器件良率[7] - 采用高速高精度运动台系统 最大加速度1.5g 以大幅提升单位时间产能[8] - 采用高照度I-line光源（波长365nm）和高速直线电机基底传输系统 支持2/3/4/6/8英寸多种规格基片快速切换[8] 工艺兼容性与适应性 - 设备支持Si、SiC、InP、GaAs、蓝宝石等多种材质基片[8] - 兼容平边、双平边、Notch等多种基片类型[8] - 创新调焦调平系统采用多光斑、大角度入射设计 可精准测量透明、半透明、不透明及大台阶基底[8] - 支持背面对准模块 满足键合片等复杂制程的背面对准需求[8]