佳能新光刻机工厂投产 - 佳能时隔21年开设首家新光刻机工厂 位于日本栃木县宇都宫市 总建筑面积67518平方米 总投资额500亿日元[2] - 新工厂投产后佳能光刻设备产能将较2021年翻倍 计划2023年9月启动初期生产 明后年补充镜头加工制造能力[2] - 该工厂不生产EUV和ArF(i)等先进光刻设备 专注于i线 KrF等成熟光源平台 同时将制造NIL纳米压印图案化系统[2] 半导体行业趋势 - AI技术兴起推动后端先进封装需求增长 传统光刻机在该领域有广泛应用空间[2]