点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 10月10日，深圳市政府新闻办召开新闻发布会，宣布2025湾区半导体芯片展（湾芯展）将于10月15日 至17日在深圳福田会展中心举行。会上，深圳市发展改革委员会主任郭子平透露， 本土半导体企业新 凯来将参展，并将在展会上 "带来惊喜" 。 已知信息显示 ，可能发布 新一代超高速实时示波器（性能提升500%） ，应用于6G通信、智能驾驶等 领域；同时持续聚焦薄膜沉积（如峨眉山系列EPI设备）、刻蚀（武夷山系列）等核心工艺装备。 "我们很高兴地宣布，与合作伙伴共同构建的28nm国产集成电路制造示范线，已成功流片并产出首批 合格芯片。" 可是到底什么会是惊喜？欢迎大家大胆猜测。 小编认为如果有光刻机相关，那会更加让人惊喜 惊喜一： 国产DUV光刻机的"心脏"或"大脑"取得突破 惊喜三： 软件与工艺的"杀手锏" 最可能的惊喜： 宣布成功研发出用于ArF浸没式（ArFi）DUV光刻机的 国产光源系统 或 高NA物镜系 统 。 惊喜二： 28nm及以上制程的全套"去美化"产线核心设备集体亮相 最可能的惊喜： 新凯来联 ...

逻辑是这么个逻辑，我们当然期待东方在科技关键环节迅速崛起。 以下是上次展出的新闻数据： 在 2025 年 SEMICON China 展会上，新凯来发布的 ALD "阿里山" 原子层沉积设备针对 5nm 以下原子 级薄膜沉积，武夷山系列刻蚀设备支持 5nm 以下先进制程。此外，新凯来通过自研 SAQP 技术，与华 为海思算法优化，成功将 DUV 光刻机精度提升 300%，实现 5nm 制程。其与中芯国际合作完成了 5nm 逻辑芯片试产，晶圆良率达 85%，逼近台积电 EUV 工艺（90%），中芯国际也计划 2025 年用新凯来的 这套工艺进行 5nm 风险试产。 我向来不太在意消息，但重磅的事件必须重视，《股票魔法师 I》第六章讲到催化剂的时候，其实并不 是完全隔绝消息的。 如果新凯来这次展出能突破3nm工艺，将是一个具有战略意义的事件。就目前东西两岸的局势，半导体 领域如果能摆脱光刻瓶颈，意味着釜底抽薪，西方将失去关键制约手段之一，然后加上稀土一卡，攻守 可能就换位了。下象棋的时候，这叫反先。 新凯来的崛起，对于半导体行业影响深远，是长效逻辑。对设备零部件上游产业链和半导体制造耗材将 是长期利好。 国内的算 ...