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国林科技:国林半导体研制臭氧发生器以及各类功能水设备可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节
证券日报· 2025-11-27 09:35
公司业务与技术应用 - 国林科技子公司国林半导体研制的臭氧发生器可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节 [2] - 国林半导体研制的各类功能水设备同样可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节 [2]