科研设备采购趋势 - 2024年11月国内多所单位集中启动高精度光刻设备采购 涵盖无掩膜直写 接触式曝光及双光子三维直写等前沿技术路线 [2] - 采购活动反映出科研与产业领域对微纳加工能力提升的持续需求 [2] 主要采购项目详情 - z ycgr22011903单位发布自动型接触式光刻机采购项目 预算达1020.78万元 为本次预算最高的采购项目 提供完整接触式光刻解决方案 [3][4] - 南京大学拟采购无掩膜激光直写光刻机一套 预算180万元 主要用于硅基晶圆及功能膜层的亚微米图形化加工 [6][7] - 中国科学院高能物理研究所采购双光子三维激光直写光刻机 预算125万元 专注于三维微纳结构加工能力 适用于复杂三维器件的直写制造 且不接受进口设备 [9]

文章核心观点 - 玉之泉推出的AOD紫外激光直写光刻系统在深圳光博会亮相，展示了其在微纳制造领域的高精度、高稳定性和灵活性 [1][2] - 该系统深度融合声光偏转技术、激光精密调控与闭环反馈微纳加工技术，可直接在基材上“书写”任意二维/2.5维微纳结构 [2] - 作为国内率先实现AOD技术产品化的激光直写光刻设备，该系统打破了全球市场中欧美设备的技术垄断格局，成为“国产替代破壁者” [25][26] 卓越的直写性能 - 系统搭载高分辨写头，最小特征尺寸可达250nm，能够精准构建细微复杂结构 [4] - 配备光学实时自动对焦功能，自动对焦范围达100μm，补偿数十微米级高度差，确保激光全域聚焦 [11][12] - 在高倍率下CD均匀性控制在50nm内，保障连续加工中首片与末片晶圆的焦距精度一致 [12] - 配置多倍率写头，5×倍率写入速度达2000mm²/min，100×高精度模式加工速度保持15mm²/min，实现“精度-效率”按需切换 [13][17] 全面的系统特点 - 系统最大曝光面积达200×200mm²，温度稳定性控制在±0.1°，灰度等级高达4096级 [15] - 采用405nm或375nm紫外光源，兼容不同光敏材料工艺，支持9英寸基板，厚度覆盖0.1mm~15mm [17] - 支持多通道扩展，用户可在不同通道配置不同参数的激光源，实现“一机多工艺” [18] - 可制作平滑曲面、斜坡、球面、微透镜等复杂灰度结构，突破传统光刻局限 [15] 特色功能 - 提供编程接口，支持自定义加工结构，超越标准格式限制 [19] - 脚本化刻写支持用户编写生成任何数学上可描述的图形，灵活应对科研创新与小众工艺需求 [25] - 通过修改代码参数自动生成非周期性、准晶格或自定义分布的复杂阵列，提高加工效率 [25] - 刻写与切片软件兼容JPG、TIFF、GDS等多种格式，无缝衔接主流设计工具 [25] - 支持Python、LabVIEW等语言编写脚本，一键实现自动换基板、分区曝光、日志保存等操作 [25] 广泛的应用前景 - 在半导体制造领域，无需掩膜可直接刻写复杂电路图形，大幅缩短研发周期并降低生产成本，适用于掩膜版的批量定制与高端原型开发 [21] - 在微流控与生物医学领域，具备高深宽比微通道加工能力，精准加工复杂微流体结构，满足精准医疗、高通量筛选和即时诊断设备需求 [22] - 在微光学元件与AR/VR器件制造领域，能够加工衍射光栅、微透镜阵列等复杂光学结构，边缘平滑度高、形貌控制精准，加速新型光学产品研发 [23]

空天信息大学仪器设备采购 - 空天信息大学发布5项仪器设备采购意向，预算总额达2.55亿元，涉及应力测试仪、非接触式白光干涉仪、圆片测厚仪、椭偏仪、场发射扫描电镜、台阶仪、显微镜等设备 [1][2] - 采购预计时间为2025年5~6月 [2] 卫星导航仿真与增强实验室建设 - 卫星导航仿真与增强实验室仪器终端采购项目预算4300万元，拟采购信号发生器、高精度原子钟、脉冲分配器、信号采集与回放设备、高精度组合导航参考系统、安全认证源等设备，支撑卫星导航信号仿真、测试、时间基准等实验教学与科研需求 [4] - 卫星导航教学及智控相关系统采购项目预算4350万元，拟研制新体制多模导航合路信号源、空天导航全链路综合仿真系统、星间激光传递系统、安全认证控制系统等，建设统一的卫星导航仿真综合实验与教学平台 [4] 重点强化实验室建设 - 重点强化实验室建设项目预算1700万元，拟采购砂轮划片机、键合机、管壳打标机、网络分析仪、频谱分析仪、倒置荧光显微镜、原子力显微镜、方阻测试仪等设备，满足电子与集成电路学院的专业基础教学和科学研究需求 [4][5] 先进微纳加工平台建设 - 材料生长设备采购项目预算8600万元，拟采购铜填充电镀系统、ALD镀铜机、金属磁控溅射台、氧化物磁控溅射台、热蒸发台、多片式电子束蒸发台等设备，实现高质量薄膜材料生长工艺 [5] - 高精度图形转移设备采购项目预算6500万元，拟采购步进式光刻机、光刻机配套匀胶喷胶及显影系统、光刻机配套等离子去胶机等设备，实现高精度图形转移和去胶工艺 [5]