全球前端半导体设备市场格局 - 2024年全球前端半导体设备市场由美国（44.3%）、欧洲（29.2%）、日本（21.7%）、中国（3.4%）和韩国（1.4%）主导 [9] - 日本市场份额自2011年起持续下滑 2010年前与美国竞争首位 2023年被欧洲超越降至第三 [6] - 中国厂商在干法刻蚀设备领域崛起 北方华创和中微电子各占6%份额 北方华创在PVD设备领域占12%份额 [1] 主要设备类型市场份额 - 光刻设备市场规模达244亿美元 ASML占据94.1%绝对优势 [2] - 干刻设备市场规模171亿美元 由Lam Research和应用材料共同占据58.9%份额 [2] - 视觉检测设备市场规模143亿美元 KLA和应用材料合计占69.6%份额 [2] - CVD设备市场规模115亿美元 应用材料和Lam Research合计占62.3%份额 [2] 日本设备商细分领域优势 - 日本在涂布显影设备（94.5%）、热处理设备（82.2%）、单晶圆清洗设备（63.5%）、批量清洗设备（73.5%）、掩模检测设备（50%）、CD-SEM（65.5%）占据主导 [2] - 这些设备市场规模相对较小 未能扭转日本整体份额下降趋势 [2][9] 光刻设备市场动态 - 2024年光刻设备年出货量达682台 较2010年代初增长超一倍 [14] - ASML出货量份额稳定在60%以上 佳能份额从2011年14.5%升至2024年32.7% 尼康从23.7%降至4.7% [16] - EUV设备仅ASML能供应 2024年出货44台 单价约308亿日元 [19] 各类型光刻设备竞争格局 - ArF浸没式设备ASML占97%份额（2024年出货129台） 尼康仅3%（4台） [19][23] - KrF设备ASML占70.5%份额（129台） 佳能占27.9%（51台） [19][23] - i-line设备佳能占74.6%绝对优势（182台） ASML和尼康份额分别降至18%和7.4% [19][23] 企业战略分化 - ASML聚焦垄断EUV和高端ArF浸没式光刻技术 已开始出货高NA EUV设备 [25] - 佳能放弃EUV和ArF开发 专注KrF和i-line领域 在i-line领域占据74.6%份额 [28] - 尼康在所有光刻设备类型中均大幅落后 缺乏明确战略方向 [28] 纳米压印光刻技术潜力 - 佳能与铠侠联合开发纳米压印光刻（NIL） 通过压印模板形成图案 设备成本远低于EUV（308亿日元） [29][33] - NIL技术存在异物导致缺陷的挑战 若克服该问题可能引发光刻技术范式转变 [33] - 该技术可应用于从2nm尖端工艺到老旧节点的广泛领域 有望成为佳能新业务支柱 [34]