Workflow
半导体技术路线选择
icon
搜索文档
等死与找死?FD-SOI何以成为中国半导体的一条活路
观察者网· 2025-11-30 01:03
技术路线历史与产业选择 - 2014年前后法国Soitec公司因FD-SOI市场未起量面临资金链断裂危机,需依靠法国政府贷款维持运营[1] - 当时中国国家集成电路产业投资基金考察团认为“做FinFET是等死,做FD-SOI是找死”,反映国内产业界对FD-SOI的普遍悲观认知[1] - 1999年加州大学伯克利分校胡正明教授团队提出FinFET和FD-SOI两种解决方案突破25纳米物理极限[3] - FinFET将晶体管沟道竖立形成三维结构,栅极从三面包裹沟道增强电流控制能力[3] - FD-SOI在晶体管下方嵌入超薄绝缘氧化层,使沟道处于全耗尽状态切断漏电通路[5] - FinFET与传统工艺兼容性更好,FD-SOI工艺步骤少30%以上且具备动态功耗调节优势[7] - 英特尔因战略考虑拒绝依赖法国Soitec的SOI衬底,2000年代初期全力押注FinFET[8] - 台积电跟随英特尔路线,整个产业链设备、材料、IP全部倾向FinFET,FD-SOI被边缘化[9] 中国资本介入与技术合作 - 2016年上海硅产业投资有限公司认购Soitec约14.5%股份,建立战略合作关系[10] - 沪硅产业旗下上海新傲科技获得Soitec的Smart-Cut技术授权,成为全球仅四家拥有该技术的企业之一[10] - 该投资回报超过十倍,并为中国在FD-SOI领域建立自主能力奠定基础[12] - 沪硅产业持有Soitec约11%股份,实现从技术到资本的深度绑定[14] - 新傲科技具备200毫米SOI硅片量产能力,正向300毫米FD-SOI衬底迈进[14] FD-SOI技术优势与应用场景 - 22纳米FD-SOI产线投资额仅为14纳米FinFET产线的三分之一到一半[12] - FD-SOI通过背面偏置技术可动态调节功耗,对物联网、可穿戴设备、汽车电子等续航敏感应用极具价值[13] - FD-SOI在射频性能上优势突出,平面结构寄生电容更低,可轻松工作于毫米波频段,适合5G通信、卫星通信、汽车雷达等高频应用[13] - 18纳米FD-SOI可支持大多数16/14/12纳米FinFET设计需求,部分7纳米FinFET设计可用12纳米FD-SOI实现,成本大幅降低[14] - FD-SOI不需要最先进EUV光刻机,能在物联网、汽车电子、射频芯片等高速增长市场提供有竞争力解决方案[13] 中国FD-SOI生态系统建设 - 中国FD-SOI生态圈经历十年培育,形成从衬底材料、晶圆代工、EDA工具到IP设计的完整产业链[14] - 格芯(GlobalFoundries)是全球FD-SOI工艺主要推动者,2019年其22FDX平台50%以上流片来自中国客户[16] - 2023年法国政府投资29亿欧元支持意法半导体与格芯在法国合建FD-SOI工艺晶圆厂[16] - 芯原股份为22纳米FD-SOI工艺提供超过59个模拟与混合信号IP,涵盖蓝牙、Wi-Fi、GNSS等无线通信协议[16] - 国内EDA公司芯和半导体支持FD-SOI设计流程,与格芯合作加速客户技术采用[16] - 瑞芯微、复旦微电子、国科微等国内企业采用22纳米FD-SOI工艺设计物联网芯片[17] FD-SOI面临的挑战 - FD-SOI生态系统规模与FinFET存在巨大差距,FinFET仍占据供应链价值大头[18] - SOI衬底价格曾是体硅的三到四倍,成本因素阻碍FD-SOI大规模普及[18] - 中国缺少具备先进FD-SOI工艺能力的本土晶圆厂,设计企业需依赖格芯在德国或新加坡的产线[19] - 格芯与成都合资建设22FDX产线项目停工,华力微电子涉足FD-SOI未见实质性进展[19] 市场前景与发展趋势 - 全球FD-SOI市场规模将从2022年约7亿美元增长到2027年40亿美元以上,复合年增长率超过30%[20] - 业界探索将SOI衬底与FinFET晶体管结构相结合的SOI-FinFET工艺,兼具两种技术优点[20] - FD-SOI在物联网、汽车电子、射频通信、边缘AI等新兴市场开辟天地,不与FinFET传统强项领域正面竞争[20] - 法国原子能委员会电子与信息技术实验室已在10纳米和7纳米节点进行FD-SOI试验线研发,证明技术路线有继续演进空间[20]
心智观察所:等死与找死?FD-SOI何以成为中国半导体的一条活路
观察者网· 2025-11-30 00:56
文章核心观点 - 文章回顾了FinFET与FD-SOI两条半导体技术路线的历史分岔,指出因产业生态选择,FinFET成为绝对主流,而FD-SOI一度被边缘化 [1][7][9] - 文章认为,在当前全球半导体产业格局重构及中国先进制程遭遇“卡脖子”的背景下,曾被主流抛弃的FD-SOI技术为中国半导体产业提供了一条差异化的、现实的突围路径 [2][13][20] - 文章指出,经过十年培育,中国已在FD-SOI领域从衬底材料、EDA/IP到芯片设计环节构建了初步生态,但本土先进代工产能缺失等挑战仍存 [14][16][19] - 文章展望FD-SOI将在物联网、汽车电子、射频通信等高速增长市场找到自身生态位,其对中国产业的战略价值在于在封锁环境下保持技术能力与供应链弹性 [13][20][21] 技术路线历史与分岔 - **技术起源**:1999年,加州大学伯克利分校胡正明教授团队在DARPA资助下,为突破25纳米物理极限,同时提出了FinFET与FD-SOI两种解决方案 [3] - **核心原理对比**: - FinFET:将晶体管沟道竖立形成三维“鳍”状结构,栅极从三面包裹,增强电流控制 [3] - FD-SOI:在晶体管下方嵌入超薄绝缘氧化层(埋氧层),并将顶层硅膜做到极薄,实现“全耗尽”以切断漏电通路 [5] - **早期产业选择**:英特尔因战略供应链考虑(不愿依赖法国Soitec的独门衬底)、当时以数字逻辑电路为主的市场需求以及更好的传统工艺兼容性,决定全力押注FinFET [7][8][9] - **生态倾斜**:英特尔2011年量产22纳米FinFET后,台积电、三星迅速跟进,带动整个设备、材料、EDA/IP生态链向FinFET倾斜,FD-SOI被边缘化 [9] FD-SOI技术的优势与价值 - **制造成本与复杂度**:FD-SOI保留平面工艺,制造步骤比同等性能FinFET工艺少30%以上,对光刻设备要求相对宽松 [12] - **投资对比**:一条22纳米FD-SOI产线的投资额约为同等产能14纳米FinFET产线的三分之一到一半 [12] - **功耗与性能动态控制**:拥有独特的“背面偏置”技术,可在芯片运行时动态调节功耗与性能,适用于物联网、可穿戴设备、汽车电子等对续航敏感领域 [7][13] - **射频性能优势**:平面结构寄生电容更低,易于工作在毫米波频段,非常适合5G通信、卫星通信、汽车雷达等高频应用,此方面优于FinFET [13] - **制程等效性**:据IBS首席执行官Handel Jones指出,18纳米FD-SOI可支持大多数16/14/12纳米FinFET设计需求,部分7纳米FinFET设计可用12纳米FD-SOI实现,且成本低得多 [14] 中国在FD-SOI领域的布局与生态建设 - **关键资本合作**:2016年,上海硅产业投资有限公司(沪硅产业前身)认购法国Soitec约14.5%股份,建立战略合作,后持股约11% [10][14] - **核心技术获取**:沪硅产业旗下上海新傲科技获得Soitec核心的Smart-Cut技术授权,成为全球仅有的四家拥有该技术的企业之一,具备200毫米SOI硅片量产能力,并正迈向300毫米FD-SOI衬底 [10][14] - **晶圆代工环节**:格芯是全球FD-SOI主要推动者,推出22FDX和12FDX平台,2019年其22FDX平台50%以上流片来自中国客户;意法半导体也是重要力量,2023年获法国政府29亿欧元投资合建FD-SOI晶圆厂 [16] - **EDA与IP环节**:芯原股份为22纳米FD-SOI工艺提供了超过59个模拟与混合信号IP;国内EDA公司芯和半导体也在积极支持FD-SOI设计流程 [16] - **芯片设计应用**:瑞芯微、复旦微电子、国科微等国内企业已采用22纳米FD-SOI工艺设计物联网芯片;国际厂商如NXP、瑞萨、Lattice也有产品采用该工艺 [17] FD-SOI面临的挑战与瓶颈 - **生态系统规模差距**:FD-SOI生态圈仍属小众,FinFET占据供应链价值大头,生态成熟度与完善度存在显著差距 [18] - **衬底成本瓶颈**:FD-SOI硅片价格曾为普通体硅的三到四倍,虽差距在缩小,但高成本仍是阻碍大规模普及的重要因素 [18] - **本土代工产能缺失**:中国目前缺少具备先进FD-SOI工艺能力的本土晶圆厂,格芯成都合资22FDX产线项目已停工,华力微电子涉足消息未见实质进展,设计企业需依赖格芯海外产线,带来供应链风险 [19] 市场前景与战略意义 - **市场增长预测**:全球FD-SOI市场规模预计将从2022年的约7亿美元增长至2027年的40亿美元以上,复合年增长率超过30% [20] - **差异化生态位**:FD-SOI并非在手机处理器、高性能计算等FinFET传统强项领域正面竞争,而是在物联网、汽车电子、射频通信、边缘AI等新兴市场开辟天地 [13][20] - **对中国产业的战略价值**:在先进制程被封锁的背景下,FD-SOI提供了一条不需要最先进EUV光刻机和天文数字投入的突围路径,利用成熟的22/12纳米工艺覆盖广泛应用场景,是保持技术能力与供应链弹性的务实战略布局 [13][20][21] - **技术融合可能**:业界已开始探索将SOI衬底与FinFET结构结合的SOI-FinFET工艺;法国CEA-Leti已在10纳米和7纳米节点进行FD-SOI试验线研发,证明该路线仍有演进空间 [20]