公司业务里程碑与市场地位 - 公司化学机械抛光装备累计出机超过800台，涵盖Universal-H300、Universal-S300等多款主力及最新机型[2] - 公司CMP装备全面覆盖逻辑、3D NAND存储、DRAM存储等主流产品线，并成功切入大硅片、第三代半导体、CIS、MEMS、MicroLED及先进封装等领域头部客户供应链[2] - 公司产品已实现国内主流集成电路制造产线的全覆盖和批量化应用，标志着其技术、产品成熟度及质量可靠性获行业高度认可，国产替代能力持续增强，进一步夯实了公司在CMP装备领域的国产龙头地位[2] 技术协同与市场机遇 - 国内AI技术在算法架构、算力密度等核心维度持续突破，带动先进封装与芯片堆叠技术迎来深层发展机遇[3] - 公司CMP装备可与减薄装备、划切装备、边抛装备等产品形成协同效应，为先进封装与芯片堆叠等领域提供切、磨、抛的成套解决方案，未来产品应用场景将持续拓宽[3] - 随着CMP装备保有量不断攀升，公司“装备+服务”平台化战略协同效应显著释放，关键耗材与维保服务业务量将快速提升，为公司贡献持续稳定的利润增长点[3] 未来发展战略与研发方向 - 公司将继续坚持核心技术自主创新，持续加大研发投入力度[3] - 一方面聚焦先进制程突破，围绕现有产品体系，针对更先进制程工艺及功能需求推进技术迭代升级，以提升产品核心性能[3] - 另一方面将密切跟踪HBM、CoWos等先进封装技术演进趋势，持续推进产品技术革新与品类拓展，致力于为客户提供更先进、多元的成套解决方案，以把握集成电路产业链技术升级与国产替代机遇，强化核心竞争力并提升市场份额[3]