公司技术地位 - 公司是国内领先的ALD设备供应商 产品涵盖行业所需主流ALD薄膜材料及工艺 [1] - 公司开发了国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备 [1] - 该设备解决了国内集成电路突破28nm制程节点最核心工艺之一的高介电常数栅氧层薄膜工艺 [1] 技术应用与拓展 - ALD技术在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有良好的应用前景 [1] - 公司持续拓展技术覆盖面 研发推出HKMG技术 柱状电容器 金属化薄膜沉积技术及高深宽比3D NAND等技术 [1] - 工艺解决方案覆盖逻辑芯片 存储芯片 先进封装 化合物半导体和新型显示中ALD技术的主要应用场景 [1] 行业发展前景 - ALD技术是半导体设备中增长最快的领域之一 [1] - 技术在先进半导体制造环节具有重要应用价值 特别是在45nm以下制程节点和3D结构领域 [1]