公司技术路线与产品规划 - High NA EUV光刻机预计将于2027年至2028年正式投入先进制程的大规模量产作业中 [1] - 公司已启动下一代Hyper NA EUV技术的研究，为本世纪30年代的投运打下基础 [4] 客户合作与设备进展 - High NA EUV光刻机目前正由英特尔等客户测试，结果显示新设备的成像和分辨率表现良好 [3] - 公司2026年的任务之一是与客户合作将设备的停机时间最小化 [3] 行业技术采用与节点规划 - 英特尔代工在导入新一代图案化技术上最为积极，其支持High NA EUV的Intel 14A节点将在2027年正式推出 [3]