显微测试显示γ基体与铁基相之间的界面能量以及固溶体分布对磁性性能的影响显著。XRD谱峰强度比与Rietveld 拟合结果揭示 γ相含量随浇注温度提升而增加，晶格缺陷密度在中温区可通过退火降低，晶粒度下降带来的磁损 降低并非线性关系。为抑制Γ相粗化，建议以固溶强化与界面能优化为方向，辅以适度过冷速率以提升相界均匀 性。 参数 本品的核心参数聚焦浇注温度对γ基体相比例的控制和组织的稳定性。浇注温度窗口设定在1160–1270°C，γ基体相 比例可由浇注温度与后续热处理共同决定，晶粒尺寸控制在5–15 μm区间，磁导率μr在未磁化区间可达4000– 5200，饱和磁感应强度Bs约1.8–2.0 T，动态磁滞损耗在400 Hz 10 mT条件下趋向0.85–1.05 W/kg之间浮动。 以上参数以XRD及磁性测试法验证，形成了"浇注温度—γ相分布—磁性能"的耦合关系。为了确保数据可复现，工 艺参数遵循双标准体系的测试方法要求。 微观结构分析 竞品对比维度补充 在两家竞品的对比中，除了前述的γ相稳定性和加工性，还关注以下维度： 1) 温度敏感性对磁损的放大效应 2) 产线的一致性与批次波动 3) 原材料成本对最终件价的 ...