公司专利动态 - 公司于2025年8月13日获得国家知识产权局授权"电解抛光装置、系统及方法"专利 授权公告号CN115874262B [1] - 专利申请日期为2023年1月 [1] - 专利授权方为得力（中国-香港）有限公司 [1] 技术发展 - 公司获得电解抛光技术相关专利 涵盖装置、系统及方法三大技术维度 [1]