技术突破 - 成功开发出一种可大规模制备的纳米级OLED制造技术，即自对准纳米模板光刻方法 [1][2] - 该技术能够制造出像素密度高达100,000 ppi、像素大小仅100nm的OLED [2] - 使用该技术生产的OLED表面上拥有超过100万像素，外量子效率达到13.1% [2] 工艺优势 - 与传统光刻技术不同，新方法无需使用光刻胶和复杂光刻过程，制程更简单高效，并大幅降低生产成本 [2] - 技术通过直接在有机材料上进行纳米级图案化，解决了有机材料与传统微纳加工技术不兼容的难题 [2][3] - 自对准纳米模板光刻技术可大幅提高生产效率，减少制造过程时间，并能重复使用纳米模板以进一步降低成本 [3] 应用前景 - 该技术为OLED技术的微型化开辟新道路，并推动超分辨成像、片上光源及超宽带芯粒通信等前沿应用发展 [1][3] - 研究人员开发出电致发光超表面，通过其上的“超原子”可精确控制发光的方向和偏振特性，为开发新型光学器件提供可能 [2] - 此项创新为未来高分辨率显示、光通信、激光光源和集成光子学等领域提供了可行的解决方案 [3][5]