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光电器件技术
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BCEIA 2025表界面分析论坛成功举办,共话表面分析前沿技术与研究进展
仪器信息网· 2025-09-13 03:57
会议概况 - 第二十一届北京分析测试学术报告会暨展览会(BCEIA 2025)于2025年9月10日在北京中国国际展览中心召开[3] - 表界面分析暨第十一届全国表面分析科学与技术研讨会作为同期分论坛于9月11日召开,会期1天,旨在为表面化学领域提供高水平学术交流平台[2][3] 会议组织 - 论坛由中国科学院化学研究所汪福意、中山大学陈建和清华大学姚文清共同主持[5] - 共有18位专家围绕表面化学分析主题进行研讨[5] 技术研究进展 - 清华大学李景虹团队开发表面等离体共振技术,通过机制创新与仪器研发显著提升灵敏度和分辨率,可结合电化学方法原位监测细胞反应与离子通路变化[9][10] - 安徽大学刘雷团队经过十年技术攻关开发出单原子精度表征新方法,成功应用于半导体-金属界面缺陷精准测量,未来将向室温稳定操作、自动化与AI化原子制造方向发展[12][13] - 厦门大学张洪良团队聚焦光电器件技术,重点研究紫外光电子探测、高迁移率金刚石外延生长等关键技术,强调我国在宽禁带半导体研发取得显著成果并获得国家支持[14][15] - 天津工业大学赵丽霞系统研究氮化镓基半导体器件,指出其在动态电阻退化和界面可靠性方面仍存在挑战,可靠性水平较LED有较大差距[18][19] - 南开大学张新星提出电喷物质谱中许多现象可通过理论解释,发现二价铜被还原成一价铜的现象[23][24] - 岛津公司王文龙介绍XPS表面分析技术,通过角分辨、成像、深度剖析及离子散射谱等手段增强表层信息分辨能力,可解析材料纵向成分分布与界面结构[26][27] 仪器技术发展 - 北京雪迪龙科技与KORE TECHNOLOGY合作推动高灵敏度表面成像技术(SPS),该技术具备更高灵敏度,已在48个国家获得推广应用[20] - 爱发科费恩斯公司冯林介绍SP、SPS和CMS等表面分析技术,通过调节入射光能量可实现无损深度分析[29][30] - 雷尼绍公司开发多种快速成像技术包括StreamHR高分辨成像、Volume 3D成像,推出专利LiveTrack实时自动追焦功能,全新SEM-拉曼联用技术实现真正共定位分析[31][32][33] 应用领域拓展 - 表面等离体共振技术广泛应用于药物筛选与生物机制研究[10] - 单原子精度表征技术将拓展至化学分子反应和界面过程等研究领域[13] - 宽禁带半导体在射频显示领域有重要应用,氧化镓在成本、稳定性和尺寸方面具有优势[15] - 氮化镓材料适用于高温高压及大功率场景[19] - 拉曼成像技术拓展至考古、新能源及临床等现场应用[32]