一位熟悉情况的业内人士透露："SK海力士正在考虑提前启动新的EUV生产线，并与ASML保持紧 密协商，以加快设备交付速度。" EUV光刻机能够刻画10纳米级别的超微细电路，且由ASML垄断供应，全球半导体制造企业均需 排队采购，设备获取极其困难。截至去年底，拥有EUV设备数量最多的是台湾台积电，其次是三 星电子（韩国）、英特尔（美国）、SK海力士（韩国）和美光（美国）。 SK海力士自2021年在制造10纳米级第4代DRAM"1a"（约14纳米）时首次引入EUV后，逐步增加 设备数量。如果再追加20台，公司将跻身全球EUV设备保有量前三，与英特尔相当甚至超过。 此次扩充背后，是公司在下一代DRAM及HBM上的战略考量。采用EUV能够刻画更精细的电路， 从而提升单位晶圆的芯片产出，并增强能效与性能。预计将优先强化年底量产的HBM4用10纳米级 第5代DRAM（1b）以及正在准备量产的第6代DRAM（1c）的制造竞争力，这些产品将成为公司 明年的核心业务。未来，第7代DRAM（1d）以及更先进的10纳米级以下DRAM，也将导入EUV 工艺。业内预期，SK海力士最快将在明年启动1d DRAM的量产转移。 如果您希望可 ...