隆扬电子:目前已经掌握铜箔表面粗糙度RZ值≤0.2微米的技术储备

公司技术研发进展 - 公司采用独特先进制程钻研高频高速铜箔技术 [2] - 公司已掌握铜箔表面粗糙度RZ值≤0.2微米的技术储备 [2] - 公司研发储备产品PTS-2系列高频铜箔(HVLP6等级)未来可应用于50GHz以上场景 [2] 产品状态 - PTS-2系列高频铜箔目前为研发储备产品 [2] - 该产品目前尚未送样 [2]