技术突破 - 清华大学开发出理想极紫外（EUV）光刻胶材料，解决ASML都头疼的金属胶缺陷问题 [1] - 中国光刻技术从"单点突破"转向"系统集成"，在成熟制程领域构建自主产业链雏形 [1] - 高端领域需持续攻克效率与核心部件瓶颈，技术自主化非一蹴而就但每一步突破都在重塑全球芯片竞争格局 [1] 行业背景 - 由于美国的封锁和制裁，中国的芯片供应让国内众多企业焦虑，中国光刻机一直是关注焦点 [1] - 7月以来国内众多媒体纷纷报道中国光刻技术取得重大进展 [1] - 国产光刻机新秀将亮相，中国光刻机研发获得重大进展 [1]