公司技术优势 - HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率、低占空比控制、成膜致密均匀等优势和特点 [1] 公司信息披露 - 技术详情需关注公司定期报告 [1]