国林科技(300786.SZ)：半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺
国林科技(SZ:300786) 格隆汇·2025-08-18 07:07公司业务与技术应用 - 公司半导体专用臭氧系统设备可应用于光刻胶去除工艺 [1] - 臭氧主要作用之一是去除有机物 光刻胶属于有机物的一种 [1]
国林科技(SZ:300786) 格隆汇·2025-08-18 07:07
国林科技(SZ:300786) 格隆汇·2025-08-18 07:07国林科技(SZ:300786) 格隆汇·2025-08-18 07:07公司业务与技术应用 - 公司半导体专用臭氧系统设备可应用于光刻胶去除工艺 [1] - 臭氧主要作用之一是去除有机物 光刻胶属于有机物的一种 [1]