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Striker SPARC ALD
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LRCX's Memory Strength: Will DRAM and NAND Fuel Future Gains?
ZACKS· 2025-06-24 15:36
公司业绩与增长 - 公司内存业务(包括DRAM和NVM)在2025财年第三季度收入同比增长24%至13.1亿美元 [1] - NVM部门收入同比增长21%,主要受技术升级(从低层转向256层NAND设备)和AI芯片需求驱动 [2] - DRAM部门收入同比增长26.7%,得益于高带宽内存(HBM)需求、DDR5采用率提升以及客户对现有工具的升级改造 [3] 技术创新与投资 - 公司推出原子层沉积(ALD)创新技术(如ALTUS Halo和Striker SPARC ALD),并获客户认可 [4] - Akara蚀刻系统在发布后迅速赢得重要客户的多项应用 [4] - 公司正加大对DDR5、LPDDR5和HBM技术工艺的升级投资 [4] 区域市场表现 - 韩国和台湾地区贡献公司48%的收入,中国占比31% [5] - 尽管面临美国对华贸易限制,公司通过与三星、SK海力士、台积电等大客户合作保持收入稳定增长 [5] 行业竞争格局 - 应用材料(AMAT)在沉积、蚀刻等关键晶圆制造环节与公司直接竞争,且服务业务与公司的CSBG部门抗衡 [6] - ASML Holdings(ASML)在极紫外光刻(EUV)领域对公司构成竞争,因公司正拓展EUV和干光刻胶业务 [7] - AMAT和ASML的DRAM技术需求激增,ASML的NXE:3800E EUV系统受DRAM客户青睐,AMAT预计2025财年DRAM收入增长超40% [8] 股价与估值 - 公司股价年内上涨26.8%,远超行业平均涨幅6.5% [9] - 公司前瞻市盈率22.99,显著低于行业平均26.82 [11] - 2025财年每股收益共识预期上调7.2%至4美元,预计同比增长33.78% [12]
Lam Research Bets Big on ALD and Dry EUV: Will This Pay Off?
ZACKS· 2025-06-12 16:30
核心观点 - 公司专注于原子层沉积(ALD)和干式极紫外(EUV)光刻胶处理技术 这两项技术随着芯片小型化和复杂化日益重要[1] - 公司在2025财年第三季度 Striker SPARC ALD和ALTUS Halo系统需求强劲 这些工具显著提升AI用NAND和高速存储芯片性能[1] - 干式EUV技术获得DRAM和晶圆厂客户关注 支持全环绕栅极晶体管和先进封装等产业变革[2] - 公司当前在晶圆代工和NAND领域增长强劲 但面临客户支出放缓及全球贸易问题等宏观挑战[3] - 利润率改善和产品优势表明战略正确 若执行到位 ALD和干式EUV投资将成为长期竞争优势关键驱动力[4] 竞争格局 - 应用材料(AMAT)凭借Olympus/Endura平台在ALD领域构成强力竞争 并通过合作开发干式EUV光刻胶解决方案[6] - KLA(KLAC)虽以检测计量工具闻名 但其工艺控制系统对EUV缺陷识别至关重要 正深度参与干式光刻胶创新[7] - 尽管Striker SPARC等工具取得进展 但需持续创新以应对两大对手的竞争压力[5][7] 财务表现 - 公司股价年内上涨25.9% 远超行业6%的涨幅[8] - 前瞻市盈率22.94倍 显著低于行业平均31.33倍[10] - 2025财年共识预期同比增长33.8% 2026财年微降0.5% 近30日预期持续上修[11] - 季度每股收益预测显示持续上调趋势 当前季度(2025/6)预期从90天前的0.96美元上调至1.20美元[12]