公司近期动态 - 公司宣布将参加于2025年12月17日至19日在日本东京国际展览中心举办的SEMICON Japan 2025展会 展位位于2号馆2655号 [1] - 公司将在展会期间于12月18日星期四16:00至17:00举办特别活动 提供饮品和开胃菜 并安排团队与访客交流 [2][3] 公司业务与产品展示 - 公司将在展会上重点展示其下一代离子注入技术 旨在提升器件性能 增强生产力并降低拥有成本 [2] - 展示的核心产品系列包括：针对下一代功率器件优化的Purion Power Series+™系列 提供卓越纯度和精度的Purion H™系列 行业领先的高能量注入平台Purion XE™系列 以及用于工程衬底的最佳高电流氢/氦注入能力的GSD Ovation™ ES系统 [6] - 公司特别介绍了Purion Power Series+™ 作为新一代离子注入解决方案 旨在满足功率器件不断演变的性能和生产需求 包括超结结构 新解决方案能够降低拥有成本 增加工艺灵活性并加强工艺控制 [6] 公司市场与战略 - 公司总裁兼首席执行官表示 很高兴向日本半导体制造商展示其最先进的离子注入技术 [3] - 日本客户重视公司广泛的离子注入产品组合 这些产品应用于功率、图像传感器、存储器和先进逻辑领域 [3] - 公司在日本不断增长的装机量和支持基础设施反映了其致力于提供创新解决方案以确保客户成功的承诺 [3] - 公司总部位于美国马萨诸塞州贝弗利 为半导体行业提供创新、高生产力的解决方案已超过45年 [4] - 公司专注于通过离子注入系统的设计、制造和全生命周期支持来开发关键的工艺应用 离子注入是集成电路制造过程中最关键和核心的步骤之一 [4]