核心观点 - 光刻机作为半导体设备中占比最大的品类（24%）[10]，受益于电动汽车、风光储、人工智能等新需求驱动，全球市场规模从2022年的258.4亿美元增长至2024年的315亿美元[10] - 光刻技术是半导体制造的核心工艺，占制造成本约三分之一，耗时占比40%-50%，光刻机技术难度极高，被誉为"超精密制造技术领域的珠穆朗玛峰"[4][15] - 光刻机技术演进以提升分辨率和减小关键尺寸为核心目标，遵循瑞利判据理论，发展出I-line、KrF、ArF、ArFi浸没式和EUV五大类别[17] - 中国光刻机产业在政策支持下快速发展，2023年产量达124台，市场规模突破160.87亿元，中芯国际启动国产浸没式光刻机验证，有望突破外部限制[25] - 光刻机产业链涵盖光源系统、光学系统、双工件台等核心部件，以及光刻胶、特种气体、精密件等关键材料，相关标的包括炬光科技、茂莱光学、华特气体等[27] 市场回顾 - 全A指数本周（9.22-9.26）上涨0.25%，日均成交额23092亿元，较前周减少2071亿元，市场活跃度高位震荡[4] - 半导体板块表现强势，主力资金流出放缓，两融余额升至24444亿元，资金主要流向半导体、5G应用等概念[4] - 平均上涨家数2191家，较前周增加5家，平均涨停家数由72家降至64家，赚钱效应减弱[4] - 拥挤度方面，固态电池、光伏概念拥挤度较高，钒电池、光刻机拥挤度环比增幅最大[4] 光刻机市场规模与地位 - 2022年全球半导体设备市场规模1076.5亿美元，光刻机占比24%，规模258.4亿美元，2023年增至271.3亿美元，2024年预计达315亿美元[10] - 光刻机是半导体设备中最大细分品类，其他主要设备包括刻蚀设备（20%）、薄膜沉积设备（20%）、测试设备（9%）、封装设备（6%）等[12] - 中国光刻机市场规模2023年突破160.87亿元，产量124台，政策支持推动国产化能力提升[25] 光刻技术原理与演进 - 光刻技术通过光学方法将电路图形转移到晶圆表面，直接决定晶体管最小特征尺寸和集成密度[15] - 技术演进遵循瑞利判据（分辨率=k1*λ/NA），通过减小光源波长、降低工艺因子k1、提升数值孔径NA实现[17] - 发展历程从1974年Optimetrix（1800nm CD）到2017年ASML EUV（7nm CD），分辨率提升超250倍[19] 光刻机核心部件与技术难点 - 曝光光源：EUV采用LPP技术，需250W以上高功率输出，激光线宽极窄，系统转换效率要求高（20kW输入→250W输出）[33] - 光学系统：包含照明系统和投影物镜，EUV需全反射式结构，反射镜寿命是关键挑战[36] - 双工件台：需超精密测量（分辨率50pm）、运动控制（套刻精度<1nm）和机械设计，支撑高速高加速度纳米级运动[40] 产业链投资图谱 - 光源设备：炬光科技、长光华芯、福晶科技[27] - 光学镜头：茂莱光学、蓝特光学、波长光电[27] - 光刻胶：彤程新材、晶瑞电材、南大光电[27] - 特种气体：华特气体、凯美特气[27] - 精密件：富创精密、新莱应材、安泰科技[27] - 整机与集成：张江高科、中旗新材、芯碁微装[27] 重点主题动态 - 光刻机：中芯国际验证宇量昇浸没式光刻机，突破外部限制[5][25] - AIDC：政策需求共振，2025年智能算力占比目标35%，规模超300EFLOPS，2028年市场规模预计2800亿元[82][84] - 人形机器人：宇树科技将发布1.8米人形机器人，算法迭代提升稳定性，核心零部件包括电机、传感器、减速器等[90][95] 政策与产业支持 - 工信部明确"十五五"时期以新质生产力为重点，建设现代化产业体系，开辟人形机器人、脑机接口等新赛道[98][99] - 多部委推动"人工智能+"政策落地，北上广深等数十城市出台专项行动计划，覆盖算力基建、场景应用、技术攻关[87][89] - 上海未来启点社区聚合科学家、创业者、投资人，支持颠覆式创新，上海国投以耐心资本布局未来产业[102]