科顺股份:公司参与锦屏地下实验室(深2400米)建设,展现了在极端环境下的技术领先优势

公司技术实力与项目参与 - 公司参与锦屏地下实验室建设,实验室深度达2400米,展现了在极端环境下的技术领先优势 [1] - 公司创新性地提出"抑氡低本底防排一体化解决方案",该方案是一套系统性的专有技术体系 [1] - 方案能同步解决高压排水、永久防水、严密阻氡和低本底保障等核心难题 [1] 核心产品与技术细节 - 方案核心在于高性能定制化产品,如特殊定制的带背衬高密度聚乙烯(HDPE)排水板 [1] - 该产品具备卓越的耐久抗压性、一体化设计及极致气密性 [1] - 产品通过双缝热楔焊接工艺,有效阻挡氡气侵蚀,其性能远超国标并满足低本底需求 [1] 研发成果与未来展望 - 项目产出了1项发明专利、6项实用新型专利等成果,体现了公司的研发实力 [1] - 公司将继续以技术创新助力国家重大工程建设 [1]