我国光刻胶领域研究取得新突破
科技日报·2025-10-29 02:18

光刻技术研究突破 - 北京大学团队首次通过冷冻电子断层扫描技术解析光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为 [1] - 该技术生成分辨率优于5纳米的微观三维图像,克服传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的痛点 [1] - 研究成果可指导开发显著减少光刻缺陷的产业化方案,推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升 [1] 电子化学品行业会议 - “2025年湿电子化学品及电子气体高端发展会议”拟定于2025年11月20—22日在四川省富顺县举行,旨在推动产学研用深度融合 [3] - 会议主题为“融合创新‘材’赢未来”,议程涵盖电子信息化学品工程创新、电子特气行业自立自强、集成电路用电子化学品发展趋势等议题 [5] - 会议设置平行会议讨论湿电子化学品制造体系挑战与机遇及电子气体技术进展,并安排实地参观中昊晨光化工研究院等园区 [5][6] - 参会人员包括行业专家、电子化学品及气体生产企业、封装企业、晶圆企业等产业链上下游代表 [8]