行业动态 - 半导体制造核心环节光刻机赛道近期走热 国产产业链相关标的在二级市场热度空前 A股光刻机产业链标的波动显著[1] - 上海微电子在工博会上首次公开亮相极紫外（EUV）投影微场曝光装置 并披露部分技术内容[1] - 行业脉动传导至二级市场 叠加半导体行业涨价预期催化 光刻机概念涨势如虹 张江高科涨停创历史新高 江丰电子涨超17% 多只个股涨超5%[1] 公司投资与业务 - 张江高科通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资上海微电子22345万元 持有10.779%股权[1] - 江丰电子为光刻工艺前道工序提供关键材料 并为后道工序设备提供精密零部件 其研发的"半导体用多层薄壁钛合金扩散焊接项目"用于28nm以下节点光刻机核心冷却部件 已进入量产阶段[1][2] 市场格局 - 中国大陆光刻机市场空间广阔 但主要依赖荷兰、日本等地进口 出口管制下供给不确定性上升 自主可控需求迫切[2] - 全球光刻机市场以中低端KrF、i-line为主 ArFi、ArF、EUV占比较小 EUV是重要发展方向[3] - ASML独占鳌头 占据全球八成以上市场 覆盖全部级别光刻机 垄断最高端EUV市场 2025年二季度净销售额77亿欧元同比增长23% 净利润23亿欧元同比增长45% 光刻机系统销售收入56亿欧元（EUV 27亿欧元 非EUV 29亿欧元） 当季售出EUV 11台、DUV 64台[3] - 日本尼康、佳能市场份额仅个位数 尼康勉守二线 佳能位居第三 两者出货以成熟制程设备为主[4] 国产化进展 - 光刻机国产化率仅2.5% 上海微电子为国产绝对龙头 出货量占国内市场份额超过80% 产品涉及ArF、KrF和i-line领域 具备90nm及以下芯片制造能力[5] - 上海微电子对标佳能 用于成熟制程 浸没式产品暂未推出 已量产光刻机包括SSX600、SSX500、SSB300、SSB200等系列[5] - SSX600系列采用四倍缩小倍率投影物镜、工艺自适应调焦调平技术及高速高精自减振六自由度工件台/掩膜台技术[6] - 地缘政治因素导致中国大陆无法购买ASML的EUV 制程落后于台积电 市场对国产突破期望升温[7] - 中国光刻机制造商面临技术挑战和供应链问题 产能和产量受限 需上下游同心协力攻坚[7] 产业链布局 - 国内光刻机产业链包括上游设备及配套材料、中游系统集成和生产、下游应用三大环节[7] - 技术积累较深或已进入ASML/上海微电子供应链的厂商包括：芯碁微装、富创精密、炬光科技、赛微电子、波长光电、奥普光电、腾景科技、福晶科技、茂莱光学、电科数字、新莱应材、美埃科技、蓝英装备、同飞股份、海立股份、东方嘉盛、上海微电子、华卓精科等[8] - 我国在光刻机各细分技术领域均有储备：科益虹源研发248nm/193nm准分子激光器 福晶科技研发KBBF晶体 中科院研发40瓦干式准分子激光光源 国望光学研发90nm节点ArF/110nm节点KrF曝光光学系统 中科科仪研发透镜镀膜装置[9] 上市公司动态 - 国林科技电子级超纯臭氧气体发生器和半导体级高浓度臭氧水系统设备部分型号已取得小批量订单 占主营业务收入比重较小[9] - 南京化纤通过治理结构调整对南京工艺实施有效管控 南京工艺为光刻机、刻蚀机、封装设备及晶圆搬运提供配套[10] - 波长光电主营光学元件、组件及系统方案 部分产品可应用于半导体设备 但目前半导体领域营收规模较小[10] - 捷众科技客户浙江启尔机电为光刻机提供超洁净流体处理设备[10] 发展路径 - 单点技术突破和单个公司研发难以打开局面 需借鉴ASML与上下游产业链紧密合作、产学研深入发展的模式[11] - 光刻机作为高壁垒、重资本、高风险行业 发展有赖"举国体制"之力 需国家牵头、科研院所与关键公司参与实现供应链自主可控[11] - 上海微电子和几大院所的科技研发成果是国内光刻机发展风向标 值得长期关注[11]