公司动态 - Axcelis Technologies将参加2025年9月14日至19日在韩国釜山Bexco会议中心举行的国际碳化硅及相关材料会议(ICSCRM 2025) [1] - 公司在会议期间将推广新推出的Purion Power Series+™和GSD Ovation ES平台，这些平台专门设计用于提升下一代功率器件的设备能力和生产效率 [2] - 公司总裁兼首席执行官Russell Low博士表示，ICSCRM 2025是功率半导体市场最重要的技术论坛之一，公司特别兴奋展示针对碳化硅及相关材料应用的下一代解决方案研究成果 [2] 技术展示 - 公司技术人员与合作方将在ICSCRM技术论坛上展示三个专题：单步高能沟道注入实现超结产业化的路径、SiC超结器件高能沟道注入工艺开发、硅和氧预注入对4H-SiC热氧化的影响 [6] - 这些研究成果是与领先器件制造商和研究联盟多次合作的成果 [2] 产品发布 - 公司新推出的Purion Power Series+离子注入平台专为下一代SiC功率器件设计 [7] - GSD Ovation ES平台为工程衬底提供同类最佳的高电流批量注入能力 [8] 公司背景 - Axcelis总部位于马萨诸塞州Beverly，为半导体行业提供创新高生产率解决方案超过45年 [3] - 公司专注于通过离子注入系统的设计、制造和全生命周期支持来开发关键工艺应用，这是IC制造过程中最关键和最重要的步骤之一 [3]