业绩数据 - 半导体业务占公司总营收比大于50%，集成电路相关营收占比超半导体业务的70%[2][10] - 一季度营收中，半导体材料和设备占公司总营收约60%[11] - 刻蚀液在2022年营收超1亿元基础上继续增长[8] - 电子化学材料配套设备21年营收7008万，22年营收减少至5329万[19] 用户数据 - 截止四月底上海新阳股东人数为46063人[16] 未来展望 - 合肥第二生产基地一期获批产能为17000吨/年，一期二期合计规划产能7万吨，一期预计今年四季度投产[4][16] - 子公司新阳硅密正在积极筹备上市[8] 新产品和新技术研发 - 公司研发的ArF干法光刻胶适用于55 - 90nm芯片制程工艺，浸没式适用于45 - 28nm芯片制程工艺[4] - 公司开发的无羟胺干法蚀刻后清洗液已通过国内主流晶圆制造客户验证[2] - 公司开发的KrF光刻胶已有多型号产品实现小批量、持续销售，ArF光刻胶处于客户端认证阶段[5] - 公司化学机械研磨液（CMP）已有成熟系列产品通过客户测试并小规模销售，多款产品在多家客户端验证[6] - 公司开发的ArF湿法光刻胶灵敏度达45 - 60nm，边缘粗糙度为2 - 3纳米[7] - 公司开发的I线、KrF光刻胶已有多型号产品实现小批量、持续销售[19] 市场扩张和并购 - 公司购买四台光刻机，分别用于不同类型光刻胶测试[12] 其他新策略 - 公司库存比四季度小幅下降，采购成本略有下降[11] - 公司持有的中芯国际股票已全部减持完毕[8] - 公司现在持有沪硅产业4.51%股份[17] - 子公司江苏考普乐股本已增资扩大到人民币6231.8万元[18] 业务与产品特点 - 公司是国内唯一14nm以上技术节点全覆盖的集成电路制造用电镀液（添加剂）和清洗液的本土供应商[1] - 国内集成电路行业KrF光刻胶国产化率不足5%，ArF干法与湿法光刻胶国产化率为0%[5] - 光刻及研磨两大系列产品国内市场规模约为80亿元人民币[13] - 公司现有服务于市场的集成电路关键工艺材料大都填补国内空白，替代进口[14] - 公司电镀与清洗两大系列产品实现90 - 14nm制程全覆盖，带动销量快速增长[16] - 上海本部光刻胶规划产能513吨，目前建成年产能100吨[20] - ArF干法胶尚在客户认证阶段，与客户工艺及不同应用领域需求匹配调试当中[20] - 公司KrF光刻胶已具备量产能且有销售，ArF光刻胶尚在认证中[8] 股权信息 - 公司持有博砚电子7.03%的股份[6]